清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为:超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等;其中应用领域广泛的当属喷淋清洗和超声波清洗;在工业生产及电子产品的生产过程中，随着对产品部件表面清洁度的提高，超声波精密清洗方式正越来越多的人们所关注和---。
nano-master的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不---去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。
化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有hf，h2so4，h2o2，hcl等酸碱液体按一定比例配置，led清洗机，目的是为了去除杂质，去离子，led腐蚀设备，去原子，后还有di清洗。ipa是，无锡led，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
刻蚀机主要分类：电容电感两种方式，优势互补刻蚀按照被刻蚀材料划分，主要分为硅刻蚀、介质刻蚀以及金属刻蚀。不同的刻蚀材质其所使用的的刻蚀机差距较大。干法刻蚀的刻蚀机的等离子体生成方式包括ccp（电容耦合）以及icp（电感耦合）。而由于不同方式技术特点的不同，led清洗设备，他们在下游擅长的应用领域上也有区分。ccp技术能量较高、但可调节性差，适合刻蚀较硬的介质材料（包括金属）；icp能量低但可控性强，适合刻蚀单晶硅、多晶硅等硬度不高或较薄的材料。
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