目前在 半导体清洗机湿式清洗制程中，主要应用项目包含晶圆清洗与湿式蚀刻两项，晶圆 (湿式) 清洗制程主要是希望藉由化学---与清洗设备，清除来自周遭环境所附着在晶圆表面的脏污，以达到半导体组件电气特性的要求与---度。至于脏污的来源，不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程---人体自身与动作的影响、化学材料或制程药剂残留或不纯度的发生，以及制程反应产生物的结果，尤其是制程反应产生物一项，更成为制程污染主要来源，因此如何---制程中所产生污染，便成为清洗制程中研究主要的课题。

过去 rca 多槽湿式清洗一直是晶圆清洗的主要技术，不过随着近年来制程与清洗设备的演进，不但在清洗制程中不断产生新的技术，也随着半导体后段封装技术的演进，清洗设备也逐渐进入封装厂的生产线中。以下本文即针对清洗设备与技术作一深入介绍，并分析清洗设备发展的关键机会及未来的发展趋势。

我们大家都知道，在工业生产过程中，我们都面临着各种各样的清洗问题，这是不可避免的。因此如何快速、有效的解决这些清洗难题，不但影响到工业生产的效率，同时也对产品的品质起到决定性的影响。由此看来，一个工业企业，如何才能快速、有效的解决面临的各种工业清洗的问题是非常重要的。 企业选对一家合适的清洗设备公司进行quan面的合作是尤为重要的。作为清洗设备公司——苏州晶淼半导体设备有限公司目前已经发展成为众多工业企业shou选的合作对象，为了使更多的国内工业企业深入的了解我们苏州晶淼半导体设备高压清洗机及系列清洗产品，请随时关注我们的网站，及发布的*新信息。也欢迎来电咨询，我们将竭诚为您服务。

民用清洗领域

40岁以上的人可能还会记得20世纪80年代以前．那几乎就是你每月所有的清洗剂了．洗衣服要用它。洗头要用它，洗澡也要用到它．改革开放以来，的民用清洗领域发生了翻天覆地的变化．从早期的“威娜宝”到今天的“海飞丝”，“飘柔”，各种各样的洗发香波琳琅满目，各种洗涤用品广告充斥着电视的黄金频段，现在可能已经很少有人再用过去那种肥皂洗头了．

与此同时，规模化的洗涤公司遍及大街小巷．---小小的家庭清洁．保洁公司大量出现，民用清洗领域呈现商业化。随着我国---的持续高速发展．人们对日常生活提出了更高的要求，对各种清洗的需求日增．民用清洗形成了---的市场．

从远古以来．人类就了解和掌握了一些与自身有关的清洗知识．在古代，人们除了用清水去除沾附在身体和衣物上的泥沙之外，还知道用草木灰去除衣物上的油性污垢．纯碱和肥皂是人类至今仍然在大量使用的历史为悠久和普遍的清洗用品．20世纪随着化学工业---是石油工业的发展而出现的合成洗涤剂，以及随之出现的洗涤设备，---地改变了人们的日常生活．

名目繁多的清洗剂也摆在每个家庭的厨房，各种清洗剂如“玻璃水”，“瓷砖灵”。“去油王”等大量进入市场．

传统和现代应用中越来越多地采用mems技术，晶圆清洗序列中越来越多的关键步骤，对3d结构晶圆的需求增加，以及物联网应用中越来越多地采用硅基传感器、芯片和二极管，这些都推动了晶圆清洗机市场的增长。

晶圆清洗机指硅片晶圆生产清洗工艺中，用于去除硅片晶圆表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性的设备。