发布单位:苏州晶淼半导体设备有限公司 发布时间:2022-8-8
全自动硅片腐蚀清洗机
全自动硅片腐蚀清洗机型号:cgb-xxxx—xx系列,品牌:华林嘉业—cgb。该设备适用于2英寸、3英寸、4英寸、5英寸、6英寸、8英寸硅晶圆片的清洗腐蚀,德国进口磁白pp板经雕刻后热弯/焊接组合加工;一、槽体结构:该槽体实现腐蚀或后残留在片子上的化学液及污染颗粒的冲洗祛除功能。它由安装在槽体底部的排阀、di注入孔(包括氮气鼓泡)及顶部左右两侧的di喷嘴实现槽体的快速注入与排放。二、工艺控制:冲洗槽(qdr)的工作过程由独立k200型控制器---。所有工序均由机械手自动行走自动完成。
高压清洗机是通过动力装置(电动机、柴油机)使高压柱塞泵产生高压水来冲洗物体表面的机器。它能将污垢剥离,冲走,达到清洗物体表面的目的。因为是使用高压水柱清理污垢,所以高压清洗也是---较科学、经济、的清洁方式之一。可分为根据现场使用和工艺要求可分为:冷水式、热水式、在特殊场合还有防爆式、食品行业---式等多种。
硅片清洗烘干
方法:湿法清洗+去离子水冲洗+脱水烘焙(热板150~2500c,1~2分钟,氮气保护)
目的:a、除去表面的污染物(颗粒、有机物、工艺残余、可动离子);b、除去水蒸气,是基底表面由亲水性变为憎水性,增强表面的黏附性(对光刻胶或者是hmds-〉二硅胺烷)。
化学清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有hf,,h2so4,h2o2,hcl等酸碱液体按一定比例配置,目的是为了去除杂质,去离子,去原子,后还有di清洗。ipa是,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。
湿式制程化学台产于美国。湿式制程化学台有标准型和---的,标准型湿式制程化学台使用于一般要求,---的湿式制程化学台具有优良性能。是一种灵活,安全和实惠的研发工具,湿蚀刻清洗设备edc 系列常被应用在以溶剂和水为基础的处理过程:蚀刻-清洗-干燥,开发-冲洗-干燥,以及利用溶剂和水的清洗。其旋转涂敷机部分,具有多种板载滴胶阀的零孔隙度特富龙流体路径等特点,干净的ectfe圆顶盖使用户能够实时观察过程的安全运行。