当前位置： 首页> 商机信息
 
商机信息
信息标题 晶圆腐蚀机-盐城晶圆-晶淼半导体
发布时间 2022-7-31
用刻蚀步骤，对暴露在外的材质进行去除，留下晶圆所需要的材质和附着在其上的光刻胶，晶圆清洗机，然后再将光刻胶通过刻蚀去除。此后多次重复上述步骤，得到构造复杂的集成电路。刻蚀的材质包括硅及硅化物、
信息标题 晶圆-苏州晶淼半导体-晶圆酸洗设备
发布时间 2022-7-31
清洗设备应用行业1. 石油化学工业:设备和管道的清洗、除垢、除焦、清除高分子聚合物和生产工艺中沉积的缩合物等。2. 精密电子工业:光学仪器、精密机械及机器人以及零部件的洗净.3. 电力工业:高
信息标题 晶圆腐蚀-淮安晶圆-苏州晶淼半导体
发布时间 2022-7-30
NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄
信息标题 晶圆腐蚀-徐州晶圆-晶淼半导体
发布时间 2022-7-29
等离子清洗机的处理可以提高材料表面的润湿性，晶圆腐蚀，进行各种材料的涂镀、电镀等操作，提高粘合强度和粘合强度，去除有机污染物，油类和油脂增加。同时。等离子清洁剂用于胶合、焊接、印刷、涂层和涂层
信息标题 晶圆酸洗台-苏州晶淼半导体-盐城晶圆
发布时间 2022-7-27
芯片线宽的缩小对刻蚀本身的准确度以及重复性有了更为严苛的要求。多次刻蚀要求每一个步骤的准确度足够高，才能使得整体生产的良率保持在可接受范围内，因此除了对于刻蚀整体步骤数有明显增加外，还对每一步
信息标题 晶淼半导体-酸腐蚀清洗设备-无锡清洗
发布时间 2022-7-27
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，硅片清洗机价格，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于
信息标题 清洗-清洗机哪家好 苏州晶淼半导体 -晶片清洗
发布时间 2022-7-26
硅料清洗机设备现在产业的不断扩大使得硅料的需求量急剧增加，硅料在运用也加大了硅料清洗的需求，但是这种材料需要专门的硅料清洗机来对其进行清洗。那么同时对硅料清洗机的需求量也增大了不少。但是不是说
信息标题 宿迁硅片-硅片清洗台-苏州晶淼半导体(推荐商家)
发布时间 2022-7-26
超声波清洗 ：超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。目前所用的超声波清洗机中，空化作用和直进流
信息标题 硅片酸洗-盐城硅片-苏州晶淼半导体
发布时间 2022-7-26
汽车/工程机械/机车工业：需要清洗的产品：发动机部件（如缸体、缸套、阀体、活塞、活塞环、气门等）、点火栓、制动泵、转向机、减振器、各类精密零部件等污染源：油、润滑油、防腐剂、机械切屑、塑料残留
信息标题 镇江晶圆-晶淼半导体 清洗机-晶圆腐蚀机
发布时间 2022-7-25
蚀刻片的作用主要是看其行业的运用的领域，在模型蚀刻片上，其局部较为细腻的处理方式，为了达到模型高还原，在金属蚀刻片上小到灯罩、网罩、盖板等都是通过蚀刻片来完成，如刀版、烫金版、产品内细部零件。
上一页 [1]... [111] [112] [113] [114] [115] [116] [117] [118] [119] [120] ...下一页
页次：115/124　10条/页　共1235条