普通的清洗方法一般不能达到孔内，而孔内芯料的反应生成物及其他污染物会在后序工艺中会产生重复污染。无论是采用清洗液清洗都容易引入新的污染源，然而利用超声波清洗技术却可以实现无重复污染，而且能深入mcp孔内的效果。对不同材料及孔径的mcp应采用频率、声强可调的超声波进行实验，以确定实际工艺参数。对孔径6~12μmmcp的清洗，当媒液为水和---时，可采用空化阈约1/3 w/cm2，声强10~20 w/cm2，频率20~120 khz的超声波进行清洗。表1是同一段不同板号的mcp采用不同频率超声波清洗后表观及电性能测试结果。由检测结果可见，对1μm以下的小颗粒污染物，应选用频率40 khz以上的超声波进行清洗。
半导体磁盘清洗机欲清洗工件放入料框内固定夹内，由人工将料框放上入料口，等工位机械手自动将料框送入清洗机本体，上下提升机构依照plc的程序将料框搬送到相应高度位置;完成对工件的洗剂清洗、纯水喷淋、纯水超声漂洗、慢提拉脱水和热风干燥后，送至清洗机出口，运送到卸料台出料。等丁位机械手由气制横向驱动，直线滑轨导向;上下提升由马达驱动，直线导轴导向;慢提拉提升机构由变频马达驱动，直线滑块导向;上下料由上下提升机构独立完成;采用触摸屏操作系统，有手动和自动切换开关及有关操作按钮，能对整个运行过程实行控制。
在对液晶玻璃进行的等离子清洗中，rca清洗机，使用的活化气体是氧的等离子体，它能除去油性污垢和有机污染物粒子，因为氧等离子体可将有机物氧化并形成气体排出。它的问题是需要在去除粒子后加入一个除静电装置，其清洗工艺如下：
吹气－－氧等离子体－－除静电
通过干式洗净工艺后的lcd及其电极ito，清洗腐蚀设备，洁净度、粘结性得到------相关产品：---等离子 ， ---等离子清洗机 ， ---等离子表面活化 ，清洗腐蚀， ---等离子表面清洗 ， ---等离子表面刻蚀 ， 常温常压等离子 ， 常温常压等离子设备 ， 等离子清洗 ， 等离子除尘 ， 等离子刻蚀 ，南通清洗， 等离子接枝 ， 等离子沉积 ， 等离子改性 ， 等
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