晶圆腐蚀-苏州晶圆-苏州晶淼半导体

面板显示使用的是玻璃基板作为电路的载体，所有的膜质以及对膜质光刻后的图形都是依附在玻璃基板上。在每次成膜或者光刻前都要对玻璃基板表面进行深入清洁，虽然玻璃基板是在无尘车间里运行，晶圆腐蚀机，但是，晶圆腐蚀，还是会存在各种异物（particle）：无机类异物和有机类异物，所以，清洗设备的较大作用就是去除表面的异物，晶圆酸洗设备，来提升产品的整体良率。

超声波清洗 ：

超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，苏州晶圆，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。目前所用的超声波清洗机中，空化作用和直进流作用应用得更多。

按频率波可以分为三种，即次声波、声波、超声波。次声波的频率为20hz以下；声波的频率为20hz~20khz；超声波的频率则为20khz以上。其中的次声波和超声波一般人耳是听不到的。超声波由于频率高、波长短，因而传播的方向性好、穿透能力强，这也就是设计制作超声波清洗机的原因。