硅片-苏州晶淼半导体-硅片清洗台

超声波清洗 ：

超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。目前所用的超声波清洗机中，空化作用和直进流作用应用得更多。

按频率波可以分为三种，即次声波、声波、超声波。次声波的频率为20hz以下；声波的频率为20hz~20khz；超声波的频率则为20khz以上。其中的次声波和超声波一般人耳是听不到的。超声波由于频率高、波长短，因而传播的方向性好、穿透能力强，硅片酸洗，这也就是设计制作超声波清洗机的原因。

清洗作为一种人们日常生活中的基本活动，大家已经习以为常，普遍到没有人重视．我国在20世纪80年代以前，还没有出现清洗行业的概念． 但是，近年来，随着经济的快速发展和人们生活水平的提高．清洗也越来越引起人们的关注．一方面，90年代以后，随着经济发展和社会进步，清洗活动范围逐步扩大，出现了大批的清洗公司．---是近几年．