苏州晶淼半导体-晶圆清洗设备-扬州晶圆

半导体清洗机

半导体清洗机原理主要是通过换能器，然后将功率超声频源的声能转换成机械振动，通过清洗槽壁将超声波辐射到槽子中的清洗液。由于受到了超声波的辐射，使槽内液体中的微气泡能够在声波的作用下从而保持振动。

在液体中传播的超声波能对物体表面的污物进行清洗，其原理可用“空化”现象来解释：超声波振动在液体中传播的音波压强达到一个---压时，其功率密度为0.35w/cm2，那么这时超声波的音波压强峰值就可达到真空或负压，但是实际上无负压存在，晶圆清洗台，因此在液体中就会产生一个很大的力，晶圆腐蚀台，然后将液体分子拉裂成空洞一空化核。此时空洞会非常接近真空的，扬州晶圆，它在超声波压强反向是会达到*这种由---细小的空化气泡而产生的冲击波现象称为“空化”现象。

各工序简要说明以下：

进料：物件进料可采用半---进料

压电式换能器目前国表里大多数超声波清洗机用的是压电式换能器，勘l形结构。

这种换能器通常有两片压电陶瓷晶片构成。一台清洗机用多个换能器，经粘接剂粘接在清洗缸底部且经并联联接构成一台清洗机的换能器。换能器基元之间距(关于频率20kh4多数在5—10为佳，太大了简单制作生笔直振动，且振动板遭到腐蚀，同时辐射面减少。