研究所及其他原子能工业:
需要清洗的产品:控制杆、计数管、泵、铅管类、研究所用的容器、玻璃螺管、玻璃管、分析试料、目镜等
污染源:灰尘、沾附污垢、砂砾、硅油、润滑油
使用清洗剂:碱性洗涤剂、中性洗涤剂;纯水;有机性洗涤剂
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为:超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等;
眼镜、钟表工业、宝石加工业:
需要清洗的产品:眼镜、眼镜架、钟表、透镜、宝石、贵重金属装饰品、手饰、各类精密零件
污染源1:涂料、真漆、清漆、润滑油、抛光剂、石墨、微尘
污染源2:尘垢、盐、手垢、染料、锈、塑料残留物
使用清洗剂1:有机性洗涤剂,醇类
使用清洗剂2:碱性洗涤剂,显影清洗机,酸性洗涤剂,中性洗涤剂,三门峡显影,纯水
眼镜清洗剂大部分是纯净水加表面活性剂制成的,有的眼镜清洗剂里会加一些碱性清洗液,如洗洁精等,有的还添加了杀菌剂
超声波清洗原理是通过换能器将高频超声波声能转换成高频机械振荡,清洗槽内的液体被每秒几万次高频机械振荡作用下,液体中形成高频声压,不断在液体中辐射传播。液体在高频交替变化作用下形成数以万计的空化泡,并在内部发生快速爆裂撞击污物表层,污物被层层破坏和剥离,从而达到清洗效果。
化学清洗槽(也叫酸槽/化学槽),显影清洗,主要有hf,h2so4,h2o2,hcl等酸碱液体按一定比例配置,目的是为了去除杂质,去离子,显影设备,去原子,后还有di清洗。ipa是,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。
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