显影腐蚀台-晶淼半导体 清洗机-淮南显影

化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），显影设备，主要有hf，h2so4，h2o2，hcl等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有di清洗。ipa是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，显影腐蚀机，是为了减少partical的。

苏州晶淼是一些多年从事半导体湿法设备研发、制造的人员，因共同的理念，共同的信念，共同的使命感，聚拢在一起的团队。晶淼专于制造，显影腐蚀台，用心细节，以客户为中心，视---为生命，以进取奋斗为本；视提升、---、发展个人价值，---服务社会为人生意义所在。，淮南显影，严谨，真诚，守信、团队合作，开放进取。晶淼必将是湿制程设备，未来的者！

jm 必属---，必将成为湿制程设备供应商的！

刻蚀是用化学、物理、化学物理结合的方法有选择的去除（光刻胶）开口下方的材料。被刻蚀的材料包括硅、介质材料、金属材料、光刻胶。刻蚀是与光刻相联系的图形化处 理工艺。刻蚀就是利用光刻胶等材料作为掩蔽层，通过物理、化学方法将下层材料中没被上层遮蔽层材料遮蔽的地方去掉，从而在下层材料上获得与掩膜板图形对应的图形。