硅片清洗 化学清洗
化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染，方法较多，有溶剂萃取、酸洗（---、·王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中体系清洗方法效果好，环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为h2so4:h2o2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性，将有机物分解而除去；用超纯水冲洗后，再用成分比为h2o:h2o2:nh4oh=5:2:1或5:1:1或7:2:1的碱性清洗液清洗，spm腐蚀机，由于h2o2的氧化作用和nh4oh的络合作用，spm，许---属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水；然后使用成分比为h2o:h2o2:hcl=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，由于h2o2的氧化作用和---的溶解，以及氯离子的络合性，许---属生成溶于水的络离子，从而达到清洗的目的。
汽车/工程机械/机车工业：
需要清洗的产品：发动机部件（如缸体、缸套、阀体、活塞、活塞环、气门等）、点火栓、制动泵、转向机、减振器、各类精密零部件等
污染源：油、润滑油、防腐剂、机械切屑、塑料残留物、研磨磨料、石墨、焦油、尘垢、碳
使用清洗剂：有机性洗涤剂；轻油(洗油等)；碱性洗涤剂，酸性洗涤剂，中性洗涤剂；纯水
超声波清洗 ：
超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，spm清洗，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。目前所用的超声波清洗机中，空化作用和直进流作用应用得更多。
按频率波可以分为三种，即次声波、声波、超声波。次声波的频率为20hz以下；声波的频率为20hz~20khz；超声波的频率则为20khz以上。其中的次声波和超声波一般人耳是听不到的。超声波由于频率高、波长短，因而传播的方向性好、穿透能力强，这也就是设计制作超声波清洗机的原因。
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