硅片清洗-硅片-苏州晶淼半导体

产品说明

1、 该腐蚀机通过高压喷淋及被蚀刻板直线运动形成连续不间断进料状态进行对工件腐蚀以提高生产效率；2、该机加大了喷淋与被蚀刻金属板的有效面积和蚀刻均匀程度，无论在蚀刻效果、速度和---操作者的环境及方便程度，都优于泼溅式蚀刻；3、 经反复实验喷射压力在1-2 kg/cm2的情况下被蚀刻工件上所残留的蚀刻圬渍能被有效清处掉，使蚀刻速度在传统蚀刻法上---提高，由于该蚀刻机液体可循环再生使用，此项可---降低蚀刻成本，也可达到加工要求。 ·该双面腐蚀机可配备自动烘干烘烘道，自动双面显影机，自动上色机，数控制版机，硅片清洗，堆金电镀机可达到各种金属加工行业的批量加工要求；·此机适合单双面图文腐蚀，亦能雕穿金属形成镂空效果，适合现有仍采用较老式的泼溅式蚀刻机或其它金属加工厂升级设备。·该腐蚀机可对各种金属如：铁、铜、铝、钛金、不锈钢、锌版、等金属和金属制品的表面蚀刻图纹、花纹、几何形状，并能*确镂空。也可针对各种型号的国产和进口不锈钢进行蚀刻和薄板切割，现在广泛应用于金卡标牌加工、手机按键加工、不锈钢滤网加工、不锈钢电梯装饰板加工、金属引线框加工、金属眼睛脚丝加工、线路板加工、装饰性金属板加工等工业用途。

mems是将微电子技术与机械工程融合到一起的一种工业技术，硅片腐蚀，它的操作范围在微米范围内；微机电系统有多种原材料和制造技术，而硅则是用来制造微机电系统的主要原材料，微机电系统的生产方式是在基质上堆积物质层，然后使用平板印刷和蚀刻的方法来让它形成各种需要的结构。

化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有hf，h2so4，h2o2，hcl等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，硅片清洗台，去原子，后还有di清洗。ipa是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。