湿制程腐蚀设备-苏州晶淼半导体-白山湿制程

微电子技术是随着集成电路，尤其是---型规模集成电路而发展起来的一门新的技术。其发展的理论基础是19世纪末到20世纪30年代期间建立起来的现代物理学。微电子技术包括系统电路设计、器件物理、工艺技术、材料制备、自动测试以及封装、组装等一系列专门的技术，微电子技术是微电子学中的各项工艺技术的总和。

化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有hf，h2so4，h2o2，湿制程清洗设备，hcl等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有di清洗。ipa是，就是工业酒精，白山湿制程，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。

硅片清洗烘干

方法：湿法清洗＋去离子水冲洗＋脱水烘焙（热板150～2500c，1～2分钟，氮气保护）

目的：a、除去表面的污染物（颗粒、有机物、工艺残余、可动离子）；b、除去水蒸气，是基底表面由亲水性变为憎水性，增强表面的黏附性（对光刻胶或者是hmds-〉二硅胺烷）。

化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有hf，h2so4，h2o2，hcl等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，湿制程腐蚀台，去离子，去原子，后还有di清洗。ipa是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。