显影设备-苏州晶淼半导体-连云港显影

残留的光刻胶、树脂、残留物和其他有机污染物暴露在等离子体中，清洗机 slc (100)可以在短时间内去除。等离子表面清洗和表面改性（等离子表面处理）利用等离子的特性对待处理固体原料的表面进行清洗、活化和激发，显影设备，去除表面的微观结构、化学性质和能量。目的是改变。等离子体是一种高能、不稳定的状态。等离子体以各种方式用于利用这种高能量和不稳定性。

微电子技术是一门作用于半导体上的微小型集成电路系统的学科。微电子技术的关键在于研究集成电路的工作方式以及如何实际制造应用。集成电路的发展依赖于半导体器件的不断演化。微电子技术可在纳米级---的区域内通过固体内的微观电子运动来实现信息的处理与传递，并且有着---的集成性。

化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有hf，h2so4，显影腐蚀台，h2o2，hcl等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有di清洗。ipa是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。