spm清洗设备-苏州晶淼半导体-扬州spm

腐蚀机对功率半导体器件中半导体芯片进行腐蚀加工均采用人工操作，spm清洗设备，即先人工将半导体芯片除台面外的两面涂黑蜡保护，再人工将半导体芯片台面进行腐蚀、清洗，人工用有机物去除黑蜡、清洗、烘干。现有人工对半导体芯片台面进行腐蚀不仅存在手工涂蜡浪费人力及有机物的问题，而且还存在不能在保持芯片干净的情况下直接进行烘干的问题。

刻蚀是半导体制造三大步骤之一刻蚀已经成为半导体晶圆制造中的关键步骤，在半导体制造中重要性---。半导体制造主要步骤包括光刻、刻蚀、以及薄膜沉积三大步骤，并且不断循环进行，以构造出复杂精细的电路结构。而这三个环节工艺的---程度也直接决定了晶圆厂生产高制程产品的能力，以及芯片的应用性能。

化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），扬州spm，主要有hf，h2so4，spm腐蚀台，h2o2，hcl等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有di清洗。ipa是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。