晶片清洗机-苏州晶片-苏州晶淼半导体

超声清洗：

　　腐蚀后的mcp是由微米级细孔构成的复杂网状结构，普通的清洗方法一般不能达到孔内，而孔内芯料的反应生成物及其他污染物会在后序工艺中会产生重复污染。无论是采用·溶剂或是清洗液清洗都容易引入新的污染源，然而利用超声波清洗技术却可以实现无重复污染，而且能深入mcp孔内的效果。

全自动真空干燥系统暨应对传统真空干燥缺陷的对策

由于---电容modules在使用过程中经常出现温度升高、充电不足、高温连续使用时膨胀、爆裂的现象，美国maxwell确认与---电容cell的制造工艺和工艺设备有相关性，昆山晶片清洗机，time一直在研究真空干燥的理由和方法，2006年美国maxwell找到了time，就开发全工序全自动的真空干燥系统达成协议。

全自动---电容真空干燥系统系统在各单个制备工序以及在从一道工序转移到下一道工序的过程中完全实现高真空环境；有效排除---电容内部水、气、杂质的影响；从而提高功率密度，降低内阻，晶片清洗，---高频特性；---地提升了---电容单体和模组的一致性及使用寿命等技术参数，同时生产效率---提高。

全自动---电容真空干燥系统系统标准配置：

te-zgy全自动预热炉4台﹑te-zgl全自动真空干燥炉12台﹑

te-zgc半自动真空周转车2台、te-zgj全自动真空手套界面箱1台。

超声波清洗机的运用

  超声波清洗机是20 世纪开展起来的高新技巧， 是一种新兴的、多学科穿插的边沿科学， 已引起美国、德国、加拿大、日本和等国度科技任务者的普遍关注。超声波清洗机的开展给化工、食品、生物等学科的钻研开辟了新范畴， 超声波清洗机 从运用上对上述工业发作---影响。作为声学钻研范畴的重要组成局部， 超声在现代分别技巧中的钻研也获得了肯定停顿。目前以为超声波具备3 种基本作用机制 ， 即机械力学机制、热学机制和空化机制。因为超声波作用的奇特征，晶片清洗机， 已日益显示出其在各分别范畴的重要性。超声作用于两相或多相体系会发作各种效应，苏州晶片， 如空化效应、湍动效应、微扰效应、界面效应和聚能效应等， 其中湍动效应使边界层变薄， 增大传质速率； 微扰效应强化了微孔分散； 界面效应增大了传质外表积； 聚能效应活化了分别物资分子。一切这些效应会引起流传媒质特有的变更， 因此从整体上匆匆进了分别历程。