硅片酸洗台-硅片-晶淼半导体 清洗机

超声波清洗机在各个行业的应用

光学、光电、光伏行业：

需要清洗的产品：光学玻璃及组件、光电玻璃及组件、光伏玻璃及组件等

污染源1：研磨粉、真漆、沥青、润滑油、抛光剂、石墨、微尘

污染源2：尘垢、盐、手垢

使用清洗剂1：有机性洗涤剂，醇类(·等)

使用清洗剂2：碱性洗涤剂，酸性洗涤剂，中性洗涤剂，纯水

清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；

硅片腐蚀利用晶硅腐蚀作用，去除硅片在多线切割锯切片时产生的表面损伤层，同时利用对硅腐蚀的各向---，争取表面较低反射率较低的表面织构。解释：现有多晶硅片是由长方体晶锭在多线切割锯切成一片片多晶硅方片。由于切片是钢丝在金刚砂溶液作用下多次往返削切成硅片，金刚砂硬度---，硅片腐蚀机，会在硅片表面带来一定的机械损伤。如果损伤不去除，会影响太阳电池的填充因子。是在---生产中大量应用化工产品。由电解水而得，价格比较便宜，每500克6元。化学反应方程式为：2nacl + 2h2o ==通电== 2naoh + cl2↑ + h2↑ 。分碱性腐蚀优点是反应生成物无·，不污染空气和环境。不像hf-hno3酸性系统会生成有·的nox气体污染---。另外，硅片，碱性系统与硅反应，基本处于受控状态。有利于大面积硅片的腐蚀，可以---一定的平行度。