晶圆腐蚀台-苏州晶淼半导体-苏州晶圆

半导体设备在工艺过程中会产生反应热或其他介质辐射、传导的热量。为---工艺稳定或安全考虑会选择对腔体进行一定的温度控

制。水因获得容易，成本低，对环境无污染，换热率---优点。通常用作加热或冷却的流体介质。以往的腔体水路多采用铜管或钢管等通过导热胶与腔体粘接。由于存在管壁材料、粘接材料及空气夹层等多层介质间的热传导，换热效率较低。在加工能力提升的今天，逐渐更改为采用机加工或焊接等方式实现的流体介质直接与腔体接触的水路方案。但在换热效率提高的同时也带来了新的问题。

硅片刻蚀台

苏州晶淼作为国内的湿法制程设备制造企业之一，一直全心服务于微电子集成电路、半导体材料、半导体照明led、光伏太阳能、lcd-tft 液晶等行业领域。通过多年清洗设备的研发生产经验及周到快捷的售后服务赢得了越来越多的客户---。

多年来，苏州晶淼一直---于为半导体材料、微电子集电路、led、有机发光二级管、三极管、电力电子器件、分立器件、mems传感器、光伏太阳能、等行业域提供完备工序的湿法清洗、腐蚀制程设备。