热水高压清洗机的故障处理方法
2、处理方法 首先看一下点火叉位置是否正确，供酸设备系统，是否在两个电极顶端有高压电弧，系统，同时看一下喷油嘴是否喷油，这样就可以确定是不点火还是不供油。 (1)不点火 不点火的原因可能是点火叉积炭或位置不对，稍做处理就可解决，中央供酸系统，---时可更换点火叉。
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；
晶圆单片式清洗机拥有比槽式清洗机---的清洗效果，集中供酸系统，更能适应于半导体新制程工艺。
根据客户需求可定制2/4/6/8/12/16腔室，单腔室大处理速度可达到35片/小时。
可根据客户需求定制适用于8寸/12寸硅片清洗内部集成精密的化学药液配比装置和废液回收装置（可选）。
应用：专为清洗和蚀刻而设计，适用于前道和后道工艺清洗。
超声波槽内的超纯水通常由纯水供应系统直接配给，其温度小于清洗槽内的温度，由于接触中的传热导致槽内清洗液在循环加热的过程中的温度控制更困难，从而是出发低温报警的风险增加，对生产的效率与产品硅片的均有影响。因此需要对超声波槽的温度进行控制设计，使其可以满足清洗槽内的温度稳定行控制要求。
化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有hf，h2so4，h2o2，hcl等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有di清洗。ipa是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
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