湿法-苏州晶淼半导体-湿法腐蚀机

    rca清洗附加兆声能量后，湿法，可减少化学品及di 水的消耗量，缩短晶片在清洗液中的浸蚀时间，湿法腐蚀，减轻湿法清洗的各向同性对积体电路特征的影响，增加清洗液使用寿命。

苏州晶淼半导体设备有限公司

可根据客户的工艺需求和工作环境的具体要求，对设备进行人性化、个性化设计，---限度的将客户的想法转化为实际应用。能完全满足规模化生产和研发需求。 天道酬勤，商道酬信！---的产品是我们的---，超客户预期是我们的自我需求，真诚守信是我们的原则，我们的目标是提升湿制程设备制造水平和服务！

   rca清洗法:自从20世纪70年代rca清洗法问世之后，几十年来被广泛采用。它的基本步骤初期只包括碱性氧化和酸性氧化两步，但目前使用的rca清洗大多包括四步，即先用含---的酸性进行酸性氧化清洗，再用含胺的弱碱性进行碱清洗，接着用稀的qing氟酸溶液进行清洗，然后用含---的酸性进行酸性氧化清洗，在每次清洗中间都要用超纯水（di水）进行漂洗，然后再用低沸点进行干燥。