硅片清洗物理清洗
物理清洗有三种方法。刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。高压清洗:是用液体喷射片子表面,喷嘴的压力---几百个---压。高压清洗靠喷射作用,片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用,有机清洗台,靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。超声波清洗:超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率提高到频频段,有机去胶台,清洗效果---。
水基清洗机原理:
清洗机由于应用场合和洗涤对象的不同,以及污垢附着的基体的性质差异很大,清洗机理也是复杂的。可简单地将清洗分为以三个过程:
●向被洗物内浸透洗净溶液的过程一浸透作用;
●污垢从固体表面分离的过程—扩张作用; 污垢进行分散保护的过程的过程—分散、浮化、可溶化作用;
●污垢从被洗物除去的过程。
在利用水基清洗机进行清洗时,洗涤对象的表面活性物质的表面性能发生了相当大的变化,如果将1cm3立方体分割成1021个立方体的话,可以计算出它的表面积总和将为6000m2,这时此物质的表面及界面的特性就上升为主要的了,镇江有机,其自由能,表面张力等均发生了质的变化。表面张力为一定值时的浓度。在此浓度下,水基清洗机里的水溶液的许多物理化学性质会发生---的变化,使用时应---注意。
超声波清洗机在各个行业的应用
飞机工业:
需要清洗的产品:发动机部件、各类附件、燃料油过滤机、燃料计量仪表、注入喷嘴、旋转翼、流量控制装置、机械控制装置用零件、轮毂、各类精密零部件等
污染源:氧化物、灰尘、机械运转时产生的碎屑、油类、润滑油、抛光粉、防腐剂、积碳
使用清洗剂:有机性洗涤剂;轻油(洗油等);水基洗涤剂;纯水
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