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商机信息
信息标题 显影腐蚀机-安庆显影-苏州晶淼半导体
发布时间 2022-10-19
在ic级硅片的制造过程中，由于很多工艺环节对硅片洁净度要求很高，因此在一段工艺加工后通常会对硅片进行清洗，对于硅片的清洗来说通常是去除硅片表面的颗粒、有机物以及金属，在清洗过程中，为保证清洗效
信息标题 显影清洗机-显影-晶淼半导体 清洗机
发布时间 2022-10-19
晶圆单片式清洗机拥有比槽式清洗机更好的清洗效果，显影清洗，更能适应于半导体新制程工艺。根据客户需求可定制2/4/6/8/12/16腔室，单腔室大处理速度可达到35片/小时。可根据客户需求定制适
信息标题 徐州晶圆-晶圆清洗机-苏州晶淼半导体(推荐商家)
发布时间 2022-10-19
关于低温等离子安全（安全）的注意事项： 1.低温等离子表面处理设备属于高压设备，徐州晶圆，离子刻蚀设备没有知识的任何人不得打开机箱进行设备维护。 2. 未经厂家技术人员指导，不得随意拆卸喷头和
信息标题 腐蚀清洗机-清洗机-苏州晶淼半导体
发布时间 2022-10-18
3．1．2 陶瓷封装早期的半导体封装多以陶瓷封装为主，伴随着半导体器件的高度集成化和高速化的发展，电子设备的小型化和价格的降低，陶瓷封装部分地被塑料封装代替，但陶瓷封装的许多用途仍具有很多的功
信息标题 淮安晶圆-晶圆腐蚀台-苏州晶淼半导体(推荐商家)
发布时间 2022-10-18
离子刻蚀设备在光刻胶涂层和光刻显影后，将光刻胶用作掩模，通过物理溅射和化学作用去除不需要的金属，从而得到与光刻胶图案相同的线条形状。目前，等离子刻蚀设备是主流的干法刻蚀方法，由于刻蚀速度快、定
信息标题 LED腐蚀机-晶淼半导体 清洗机-扬州LED
发布时间 2022-10-18
刻蚀机作为重要的半导体加工设备之一，在半导体晶圆厂资本开支中占比较高。目前来看，LED腐蚀机，刻蚀机资本开支占比达到22%，已经与光刻机同处在前梯队，而光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备三大设备合计
信息标题 分立器件腐蚀设备-烟台分立器件-苏州晶淼半导体
发布时间 2022-10-18
     半导体清洗机湿式清洗制程中，主要应用项目包含晶圆清洗与湿式蚀刻两项。至于脏污的来源，不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程工程师人体自身与动作的影响、
信息标题 分立器件清洗设备-分立器件-晶淼半导体 清洗机
发布时间 2022-10-18
超声清洗：     对不同材料及孔径的MCP应采用频率、声强可调的超声波进行实验，以确定实际工艺参数。对孔径6~12μmMCP的清洗，当媒液为水和乙醇时，可采用空
信息标题 半导体湿法腐蚀设备-苏州半导体- 苏州晶淼半导体
发布时间 2022-10-17
超声波清洗机的日常保护与保养      1、维持清洗机的任务场合的通风、枯燥、干净，有利于装备的临时·运转及优化任务环境条件；　　2、洗净液过于龌龊时应
信息标题 湿法腐蚀台-腐蚀-苏州晶淼半导体
发布时间 2022-10-17
      晶圆清洗是半导体制造典型工序中常应用的加工步骤。就硅来说，清洗操作的化学制品和工具已非常成熟，腐蚀，有多年广泛深入的研究以及重要的工业设备的
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