苏州晶淼半导体设备有限公司
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苏州晶淼半导体-显影腐蚀台-常州腐蚀
发布时间
2022-9-17
苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、pp/pvc通风柜/厨、cds化学品集中供液系统式解决方案。我们的产品
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半导体清洗机-镇江清洗机-苏州晶淼半导体
发布时间
2022-9-17
硅料清洗机设备现在产业的不断扩大使得硅料的需求量急剧增加,硅料在运用也加大了硅料清洗的需求,但是这种材料需要专门的硅料清洗机来对其进行清洗。那么同时对硅料清洗机的需求量也增大了不少。但是不是说
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硅片清洗-苏州晶淼半导体-淮安清洗
发布时间
2022-9-16
医学研究行业:需要清洗的产品:手术器具、钻头、扩孔器、食道镜、支气管镜、直肠镜、膀胱镜、吸液管、玻璃容器、传感器、试料玻璃等污染源:***、凝胶体、灰尘、线头、指纹、进入血中的污物、残剩的处理
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晶圆腐蚀台-无锡晶圆-苏州晶淼半导体
发布时间
2022-9-16
超声波清洗机的应用金融、造币行业:需要清洗的产品:图章、受理号码牌子、瓷器、金/银制品等污染源:手垢、灰尘、指纹、脏污使用清洗剂:中性洗涤剂、碱性洗涤剂;纯水印刷/制版行业:需要清洗的产品:旋
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晶圆-苏州晶淼半导体-晶圆清洗设备
发布时间
2022-9-16
半导体清洗机半导体清洗机原理主要是通过换能器,晶圆清洗设备,然后将功率超声频源的声能转换成机械振动,晶圆清洗机,通过清洗槽壁将超声波辐射到槽子中的清洗液。由于受到了超声波的辐射,使槽内液体中的
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BOE腐蚀设备-苏州晶淼半导体-常州腐蚀
发布时间
2022-9-16
半导体清洗机湿式清洗制程中,主要应用项目包含晶圆清洗与湿式蚀刻两项,晶圆 (湿式) 清洗制程主要是希望藉由化学***与清洗设备,清除来自周遭环境所附着在
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去腊清洗机-连云港清洗机-苏州晶淼半导体
发布时间
2022-9-16
等离子清洗机的处理可以提高材料表面的润湿性,进行各种材料的涂镀、电镀等操作,提高粘合强度和粘合强度,去除有机污染物,油类和油脂增加。同时。等离子清洁剂用于胶合、焊接、印刷、涂层和涂层等应用。等
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去腊清洗机-苏州晶淼半导体-徐州清洗机
发布时间
2022-9-15
晶圆清洗机用于清洗已划片完成的工件,对切割道进行清洗,以便后续uv解胶工作。晶圆清洗机的主要工艺是水清洗、二流体清洗、甩干,其中不同种类工件使用不同的流量、压力等等。本图纸为成熟产品的图纸,已
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晶圆腐蚀机-无锡晶圆-苏州晶淼半导体
发布时间
2022-9-15
等离子刻蚀机的制备工艺简单 2.即使在处理复杂的轮廓结构时,离子刻蚀设备等离子蚀刻机也可以进行有针对性的准备。等离子刻蚀设备的刻蚀工艺改变了氮化硅层的形态。等离子刻蚀设备的刻蚀工艺改变了氮化硅
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镇江晶圆-晶圆腐蚀设备-苏州晶淼半导体(推荐商家)
发布时间
2022-9-15
干法刻蚀有化学反应、物理去除以及化学物理混合去除三种方式,性能各有优劣。其中,物理性 刻蚀,又称离子束溅射刻蚀,原理是使带能粒子在强电场下加速,这些带能粒子通过溅射刻蚀作 用去除未被保护的硅片
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