苏州晶淼半导体设备有限公司
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晶圆酸洗设备-晶圆-苏州晶淼半导体
发布时间
2022-9-5
医学研究行业:需要清洗的产品:手术器具、钻头、扩孔器、食道镜、支气管镜、直肠镜、膀胱镜、吸液管、玻璃容器、传感器、试料玻璃等污染源:***、凝胶体、灰尘、线头、指纹、进入血中的污物、残剩的处理
信息标题
南京晶圆-晶淼半导体 清洗机-晶圆腐蚀
发布时间
2022-9-5
主要清洗参数为:1、材质:槽体为全不锈钢制作,耐酸耐碱,晶圆清洗台,外形美观大方。2、机型:可根据客户要求加工定制。3、功率、频率:可调,采用超声波发生器,能量转换率高。4、温控:常温0-11
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单片清洗机设备-苏州晶淼半导体-南通清洗机
发布时间
2022-9-4
干法刻蚀有化学反应、物理去除以及化学物理混合去除三种方式,性能各有优劣。其中,物理性 刻蚀,又称离子束溅射刻蚀,原理是使带能粒子在强电场下加速,这些带能粒子通过溅射刻蚀作 用去除未被保护的硅片
信息标题
晶圆腐蚀设备-晶圆-苏州晶淼半导体
发布时间
2022-9-3
(2)电气连接。封装的尺寸调整(间距变换)功能可由芯片的极细引线间距,调整到实装基板的尺寸间距,从而便于实装操作。例如从以亚微米(目前已达到0.1 3μm以下)为特征尺寸的芯片,到以10μm为
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苏州晶淼半导体-硅片腐蚀机-南京硅片
发布时间
2022-9-3
法蚀刻仍被广泛地应用于当今集成电路制造领域,因其工艺可准确控制薄膜的去除量以及工艺过程中对原材料的损耗较低,在今后很长一段时间内其---将无法被取代.随着工艺尺寸的不断缩小,器件---性变得越
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SH去胶清洗设备-镇江清洗-苏州晶淼半导体
发布时间
2022-9-3
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为:超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等;其中应用
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清洗-晶淼半导体-晶片清洗机
发布时间
2022-9-3
清洗液的物理化学性质对清洗效果的影响清洗液的静压力大时,不容易产生空化,所以在密闭加压容器中进行超声清洗或处理时效果较差清洗剂的选择要从两个方面来考虑:一方面要从污物的性质来选择化学作用效果好
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苏州清洗机-腐蚀清洗机-苏州晶淼半导体(推荐商家)
发布时间
2022-9-3
半导体设备在工艺过程中会产生反应热或其他介质辐射、传导的热量。为***工艺稳定或安全考虑会选择对腔体进行一定的温度控制。水因获得容易,成本低,对环境无污染,超声波清洗机,换热率***优点。通常
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硅片腐蚀设备-淮安腐蚀- 苏州晶淼半导体
发布时间
2022-9-3
特殊的电应用和光应用中有不断增长的提性能的需求,这要求***地改进硅以外的许多半导体的制造技术。 这些材料的例子包
信息标题
盐城清洗机-晶淼半导体 清洗机-腐蚀清洗机
发布时间
2022-9-2
在对液晶玻璃进行的等离子清洗中,使用的活化气体是氧的等离子体,它能除去油性污垢和有机污染物粒子,因为氧等离子体可将有机物氧化并形成气体排出。它的问题是需要在去除粒子后加入一个除静电装置,其清洗
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