连云港腐蚀-湿法腐蚀机-苏州晶淼半导体(商家)

    半导体清洗机设备生产线用于pi coat前清洗设备，描述了lcd生产线（以cstn为主）上使用的pi coat清洗设备的主要清洗艺流程及设备的主要组成部分，包括清洗、漂洗、气刀、风干、ir、uv清洗干燥、cp降温、冷却干燥等。

苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、pp/pvc通风柜/厨、cds化学品集中供液系统解决方案。我们的每台设备除标准化制作外，还可根据客户的工艺需求和工作环境的具体要求，对设备进行人性化、个性化设计，---限度的将客户的想法转化为实际应用。

湿法清洗 ：

    湿法清洗采用液体化学溶剂和di水氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。通常采用的湿法清洗有rca清洗法、稀释化学法、 imec清洗法、单晶片清洗等。

苏州晶淼半导体设备有限公司对设备进行人性化、个性化设计，连云港腐蚀，---限度的将客户的想法转化为实际应用。能完全满足规模化生产和研发需求。 天道酬勤，商道酬信！真诚守信是我们的原则，我们的目标是提升湿制程设备制造水平和服务！