衡水晶片-晶淼半导体-常熟晶片清洗机

    rca清洗附加兆声能量后，晶片清洗机，可减少化学品及di 水的消耗量，衡水晶片，缩短晶片在清洗液中的浸蚀时间，减轻湿法清洗的各向同性对积体电路特征的影响，增加清洗液使用寿命。

苏州晶淼半导体设备有限公司

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rca清洗法  ：

      人们使用的清洗方法没有可依据的标准和系统化。1965年， rca（美国无线电公司）研发了用于硅晶圆清洗的rca清洗法，并将其应用于 rca元件制作上。该清洗法成为以后多种前后道清洗工艺流程的基础，以后大多数工厂中使用的清洗工艺基本是基于初期的rca清洗法。

苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、pp/pvc通风柜/厨、cds化学品集中供液系统解决方案。我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、led等行业及---院校、研究所等等科技领域的生产和研发。