刻蚀机主要分类：电容电感两种方式，扬州tmah，优势互补刻蚀按照被刻蚀材料划分，主要分为硅刻蚀、介质刻蚀以及金属刻蚀。不同的刻蚀材质其所使用的的刻蚀机差距较大。干法刻蚀的刻蚀机的等离子体生成方式包括ccp（电容耦合）以及icp（电感耦合）。而由于不同方式技术特点的不同，他们在下游擅长的应用领域上也有区分。ccp技术能量较高、但可调节性差，tmah清洗设备，适合刻蚀较硬的介质材料（包括金属）；icp能量低但可控性强，适合刻蚀单晶硅、多晶硅等硬度不高或较薄的材料。
半导体清洗
半导体清洗机在清洁过程中使用普通自来水、酒精、溶剂来进行清洗就可以了。没有那么多各种各样的清洗剂。
半导体清洗机大功率换能器清洗效果---，tmah腐蚀机，可用肉眼观察到，清洗后物体闪亮发光。而且他是机械定时控制开机时间。全不锈钢外壳与盖子、内胆，tmah清洗机，更显*档。新版本的半导体清洗机在防水性方面---改进，产品安全---，配了排水球阀，带加热配恒温系统，配不锈钢清洗篮可按照客户的要求设计制造。
超声波清洗机橡胶工业：
需要清洗的产品：手套、带子、白轮胎、橡胶制品、橡胶成型金属模/陶瓷模等
污染源：指纹、尘垢、防腐剂、油墨、染料、塑料残留物、橡胶残渣
使用清洗剂：碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性洗涤剂；纯水
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；
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