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商机信息
信息标题 功率器件-晶淼半导体-功率器件清洗机
发布时间 2023-1-31
了解超声波清洗机    超声波清洗机清洗方法逾越一样平常以的成例荡涤方法，***是工件的表面比较繁杂，象一些表面高低不平，功率器件清洗机，有盲孔的机器零部件，一些
信息标题 苏州晶淼半导体-显影腐蚀台-南阳显影
发布时间 2023-1-31
集成电路技术包括芯片制造技术与设计技术，主要体现在加工设备，加工工艺，南阳显影，封装测试，批量生产及设计***的能力上。集成电路具有体积小，重量轻，显影清洗，引出线和焊接点少，***，***性
信息标题 晶淼半导体-显影腐蚀机-徐州显影
发布时间 2023-1-30
等离子刻蚀机器，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，显影清洗，是干法刻蚀中*常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离
信息标题 湿法腐蚀-湿法-晶淼半导体
发布时间 2023-1-30
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，湿法，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。
信息标题 苏州晶淼半导体-集中供酸系统-盐城系统
发布时间 2023-1-30
刻蚀是半导体制造三大步骤之一刻蚀已经成为半导体晶圆制造中的关键步骤，在半导体制造中重要性凸显。半导体制造主要步骤包括光刻、刻蚀、以及薄膜沉积三大步骤，并且不断循环进行，以构造出复杂精细的电路结
信息标题 显影-苏州晶淼半导体-显影清洗机
发布时间 2023-1-29
(3)标准规格化。规格通用功能是指封装的尺寸、形状、引脚数量、间距、长度等有标准规格，既便于加工，显影清洗，又便于与印刷电路板相配合，相关的生产线及生产设备都具有通用性。这对于封装用户、电路板
信息标题 晶淼半导体-高温腐蚀设备-常州高温
发布时间 2023-1-29
超声波清洗 ：超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。目前所用的超声波清洗机中，空化作用和直进流
信息标题 晶圆清洗台-盐城晶圆-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-1-29
影响超声清洗效果的其它因素被清洗件的声学特性和在清洗槽中的排列对清洗效果也有较大的影响，吸声大的清洗对象，如橡胶，晶圆清洗机，布料等清洗效果差，而对声反射强的清洗件，如金属件，玻璃制品的清洗效
信息标题 晶圆酸洗设备-晶圆-晶淼半导体
发布时间 2023-1-29
研究所及其他原子能工业：需要清洗的产品：控制杆、计数管、泵、铅管类、研究所用的容器、玻璃螺管、玻璃管、分析试料、目镜等污染源：灰尘、沾附污垢、砂砾、硅油、润滑油使用清洗剂：碱性洗涤剂、中性洗涤
信息标题 湿法腐蚀台-泉州湿法-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-1-28
按照刻蚀工艺划分，其主要分为干法刻蚀以及湿法刻蚀。干法刻蚀占******。干法刻蚀主要利用反应气体与等离子体进行刻蚀，利用等离子体与表面薄膜反应，形成挥发性物质，或者直接轰击薄膜表面市值被腐蚀
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