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商机信息
信息标题 SPM-晶淼半导体-SPM清洗机
发布时间 2023-2-9
研究所及其他原子能工业：需要清洗的产品：控制杆、计数管、泵、铅管类、研究所用的容器、玻璃螺管、玻璃管、分析试料、目镜等污染源：灰尘、沾附污垢、砂砾、硅油、润滑油使用清洗剂：碱性洗涤剂、中性洗涤
信息标题 苏州晶淼半导体-LED清洗设备-镇江LED
发布时间 2023-2-9
驱动半导体封装形式不断发展的动力是其价格和性能。电子市场的客户可分为3类：家庭用户、工业用户和国家用户。家庭用户的特点是价格便宜而性能要求不高；国家用户要求性能而价格通常是普通用户的几十倍甚至
信息标题 晶片-晶淼半导体-晶片清洗机
发布时间 2023-2-8
清洗设备主要由耐腐蚀机架、 酸槽、 水槽、 干燥槽、 控制单元、 排风单元以及气体和液体管路单元等几大部分构成。其中酸槽和管路单元是清洗设备的主要组成部分。 按照材料的差异， 槽体可分为用不锈
信息标题 晶淼半导体-半导体腐蚀设备-镇江半导体
发布时间 2023-2-8
      硅清洗技术经历了持续的发展改进，包括早期用气相等效物替代在湿化学品中进行的部分清洗操作。难以置信的是，现代***的si清洗仍然依赖于大体上同
信息标题 SPM清洗设备-徐州SPM-晶淼半导体
发布时间 2023-2-8
等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中，徐州SPM，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下（如射频、微波等）形成等离子体，干法刻
信息标题 硅片腐蚀设备-硅片-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-2-8
等离子刻蚀机器，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中*常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，硅片
信息标题 晶圆-苏州晶淼半导体-晶圆酸洗
发布时间 2023-2-7
半导体晶圆制造设备可以分为刻蚀、薄膜沉积、光刻、检测、离子注入、热处理等品类，其中刻蚀设备、薄膜沉积设备、光刻设备是集成电路前道生产工艺中的三类设备。根据Gartner统计，2021年刻蚀设备
信息标题 晶淼半导体-晶圆腐蚀-南通晶圆
发布时间 2023-2-7
ssec单片处理技术使得晶圆在湿法处理时实现了对另一面的保护隔离了液体、水汽、物理的接触。应用范围包括单面湿法刻蚀、背部剥离、斜面清洗、晶圆减薄。对晶圆背部的处理取决于具体的应用。对于背部的清
信息标题 显影设备-随州显影-晶淼半导体
发布时间 2023-2-7
***加氧化剂清洗液 　 ***加氧化剂清洗液配方为: nh4oh∶h2o2∶h2o=1∶10∶10~1∶20∶20，温度为25~40℃，时间10~30min。由于这种清洗液具有碱性
信息标题 酸刻蚀台-乌兰察布酸-晶淼半导体
发布时间 2023-2-7
超声波清洗机的运用    超声波清洗机是20 世纪开展起来的高新技巧， 是一种新兴的、多学科穿插的边沿科学， 已引起美国、德国、加拿大、日本和中国等国度科技任务者
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