苏州晶淼半导体设备有限公司
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苏州晶淼半导体-半导体腐蚀机-南京半导体
发布时间
2022-11-11
影响超声清洗的因素 清洗液的流动速度对超声清洗效果也有很大影响,是在清洗过程中液体静止不流动,这时泡的生长和闭·运动能够充分完成。如果清洗液的流速过快,则有
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晶圆清洗机-苏州晶圆-晶淼半导体
发布时间
2022-11-11
在电子行业,晶圆清洗台,非常重要,无论是电子厂的批量生产还是维修点的单块电路板都需要将其清洗干净,以免污垢或者焊锡对电路产生影响,甚至可能短路。使用超声波清洗是目前为有效的手段,一台超声波清洗
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晶圆腐蚀机-晶圆-苏州晶淼半导体
发布时间
2022-11-11
腐蚀机设备通常我们将于研究机械、工业、轻工电子、仪表等行业各种环境适应性和可靠性的试验设备称为多功能腐蚀机。该设备主要是通过高压喷淋及被蚀刻板直线运动形成连续不间断进料状态进行对工件腐蚀,晶圆
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硅片-晶淼半导体-硅片腐蚀
发布时间
2022-11-10
硅片清洗 化学清洗 化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染,方法较多,硅片,有溶剂萃取、酸洗(硫酸、·王水、各种混合酸等)和等离子体法等。其中体系清洗方法效果好,环境污
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显影清洗-南阳显影-苏州晶淼半导体
发布时间
2022-11-10
MEMS传感器应用于无创胎心检测,检测胎儿心率是一项技术性很强的工作,由于胎儿心率很快,在每分钟l20~160次之间,用传统的甚至只有放大作用的超声多普勒仪,用人工计数很难测量准确。而具有数字
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晶圆-晶淼半导体-晶圆腐蚀设备
发布时间
2022-11-9
等离子清洗机的处理可以提高材料表面的润湿性,进行各种材料的涂镀、电镀等操作,提高粘合强度和粘合强度,去除有机污染物,油类和油脂增加。同时。等离子清洁剂用于胶合、焊接、印刷、涂层和涂层等应用。等
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苏州晶淼半导体-分立器件腐蚀机-苏州分立器件
发布时间
2022-11-9
反应离子刻蚀原理是将通入刻蚀室的工艺气体分子解离,产生等离子体。一方面由等离子体中的部分活性基团与被刻蚀材料表面发生化学反应,另一方面由于射频自偏压作用,等离子体中的正离子对被刻蚀材料,表面进
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晶片-苏州晶淼半导体-晶片清洗
发布时间
2022-11-8
干法刻蚀有化学反应、物理去除以及化学物理混合去除三种方式,性能各有优劣。其中,物理性 刻蚀,又称离子束溅射刻蚀,原理是使带能粒子在强电场下加速,这些带能粒子通过溅射刻蚀作 用去除未被保护的硅片
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半导体-苏州晶淼半导体-半导体湿法设备
发布时间
2022-11-8
按照清洗机精度的要求不同,主要分为一样平常财打造清洗机,半导体,周详财打造清洗机与超周详财打造清洗机三大类。 在常日保
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苏州晶淼半导体-显影腐蚀台-秦皇岛显影
发布时间
2022-11-8
设备特点:1.设备清洗方式采用超声波清洗+旋转助洗方式,可有效清洗产品的盲孔难洗部位,达到预期效果2.整机采用PLC控制,自动化程度高,清洗干燥过程中无需人工操作,秦皇岛显影,有效减低了劳动强
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