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商机信息
信息标题 苏州晶淼半导体-晶圆清洗台-宿迁晶圆
发布时间 2022-11-5
芯片线宽的缩小对刻蚀本身的准确度以及重复性有了更为严苛的要求。多次刻蚀要求每一个步骤的准确度足够高，晶圆清洗，才能使得整体生产的良率保持在可接受范围内，因此除了对于刻蚀整体步骤数有明显增加外，
信息标题 功率器件清洗-苏州功率器件-晶淼半导体
发布时间 2022-11-5
晶圆清洗机用于清洗已划片完成的工件，对切割道进行清洗，以便后续UV解胶工作。晶圆清洗机的主要工艺是水清洗、二流体清洗、甩干，其中不同种类工件使用不同的流量、压力等等。本图纸为成熟产品的图纸，已
信息标题 中央供酸系统-系统-苏州晶淼半导体
发布时间 2022-11-5
适用于硅片晶圆湿法清洗、湿法刻蚀、显影、去胶、LIFT-OFF等工艺；标准吸盘适用于2-12英寸晶圆，其它规格可定制；一体式清洗腔体；进口伺服电机控制，转速及工艺时间参数可自由设定；采用进口旋
信息标题 硅片-苏州晶淼半导体-硅片清洗
发布时间 2022-11-5
     在半导体湿式清洗制程中，晶圆 (湿式) 清洗制程主要是希望藉由化学药品与清洗设备，清除来自周遭环境所附着在晶圆表面的脏污，硅片酸洗台，以达到半导体组件电
信息标题 集中供酸系统-系统-苏州晶淼半导体
发布时间 2022-11-4
离子刻蚀设备在光刻胶涂层和光刻显影后，将光刻胶用作掩模，通过物理溅射和化学作用去除不需要的金属，从而得到与光刻胶图案相同的线条形状。目前，等离子刻蚀设备是主流的干法刻蚀方法，由于刻蚀速度快、定
信息标题 系统-苏州晶淼半导体-集中供液系统
发布时间 2022-11-4
ND-0105吊臂式超声波清洗机，集中供液系统，是由上料、超声初洗、超声波清洗、市水超声漂洗、喷淋漂洗、热风烘干、下料等七个工位组成的一条吊臂式超声波清洗机，其工作原理是利用超声波空化渗透力强
信息标题 晶淼半导体-硅片清洗-泰州硅片
发布时间 2022-11-4
干法刻蚀有化学反应、物理去除以及化学物理混合去除三种方式，性能各有优劣。其中，物理性 刻蚀，硅片刻蚀台，又称离子束溅射刻蚀，原理是使带能粒子在强电场下加速，这些带能粒子通过溅射刻蚀作 用去除未
信息标题 显影清洗机-常州显影-晶淼半导体
发布时间 2022-11-4
我国在上世纪60年代自行研制和生产了首台计算机，其占用面积大约为100 m2以上，常州显影，现在的便携式计算机只有书包大小，而将来的计算机可能只与钢笔一样大小或更小。计算机体积的这种迅速缩小而
信息标题 显影设备-显影-苏州晶淼半导体
发布时间 2022-11-4
3 封装的分类半导体(包括集成电路和分立器件)其芯片的封装已经历了好几代的变迁，从DIP、SOP、QFP、PGA、BGA到MCP再到SIP，技术指标一代比一代先进，包括芯片面积与封装面积之比越
信息标题 分立器件腐蚀机-台州分立器件-苏州晶淼半导体
发布时间 2022-11-3
蚀刻片是用来代替模型的一部分零件的，因为一般的模型只有塑料零件，而有些真实的东西很难用塑料模拟出来。蚀刻片是项令人又爱又怕的模型科技产品，其生产的原理很类似电路板的方法，是利用强腐蚀性的强酸蚀
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