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商机信息
信息标题 硅片清洗机-硅片-晶淼半导体
发布时间 2022-8-29
清洗作为一种人们日常生活中的基本活动，大家已经习以为常，普遍到没有人重视．我国在20世纪80年代以前，硅片腐蚀，还没有出现清洗行业的概念． 但是，近年来，随着经济的快速发展和人们生活水平的提高
信息标题 泰州清洗机-晶淼半导体 清洗机-腐蚀清洗机
发布时间 2022-8-28
喷淋清洗机是一种利用水压冲洗物体表面的工业清洗设备。它将工件表面污垢剥离，冲走，达到清洗物体表面的目的。该机具有工位多，功能全，结构合理，操作方便，清洗效果好，对于大批量工件的清洗，***劳动
信息标题 半导体腐蚀设备-腐蚀-晶淼半导体
发布时间 2022-8-28
      在清洗工艺中，去除刻蚀后的光刻胶残渣是半导体行业的一大技术难点，尤其是经过高浓度离子注入的光刻胶，注入的阳离子和光刻胶中的碳形成很强的化学键，半导体腐
信息标题 硅片刻蚀机-苏州晶淼半导体-无锡硅片
发布时间 2022-8-28
等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下（如射频、微波等）形成等离子体，干法刻蚀技术由于具
信息标题 半导体清洗机-盐城清洗机-苏州晶淼半导体
发布时间 2022-8-28
等离子刻蚀机的制备工艺简单 2.即使在处理复杂的轮廓结构时，离子刻蚀设备等离子蚀刻机也可以进行有针对性的准备。等离子刻蚀设备的刻蚀工艺改变了氮化硅层的形态。等离子刻蚀设备的刻蚀工艺改变了氮化硅
信息标题 南通清洗机-刻蚀清洗机-苏州晶淼半导体(推荐商家)
发布时间 2022-8-28
湿法腐蚀机用途主要用微细加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片上显影，湿法腐蚀，清洗，冲洗，甩干与光刻、烘烤等设备配合使用。设备能满足各类以下尺寸的基片处理要求，并配制相应
信息标题 晶淼半导体-硅片清洗台-宿迁硅片
发布时间 2022-8-27
虽然等离子刻蚀设备在集成电路制造中得到了广泛的应用，离子刻蚀设备但由于等离子刻蚀过程中的物理化学过程复杂，它是理论上模拟和分析等离子刻蚀过程的有效方法，硅片腐蚀，但目前还没有。除蚀刻外，等离子
信息标题 晶圆腐蚀-盐城晶圆-晶淼半导体
发布时间 2022-8-27
超声波清洗机橡胶工业：需要清洗的产品：手套、带子、白轮胎、橡胶制品、橡胶成型金属模/陶瓷模等污染源：指纹、尘垢、防腐剂、油墨、染料、塑料残留物、橡胶残渣使用清洗剂：碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性
信息标题 晶圆-晶淼半导体-晶圆酸洗设备
发布时间 2022-8-27
用刻蚀步骤，对暴露在外的材质进行去除，留下晶圆所需要的材质和附着在其上的光刻胶，然后再将光刻胶通过刻蚀去除。此后多次重复上述步骤，得到构造复杂的集成电路。刻蚀的材质包括硅及硅化物、氧化硅、氮化
信息标题 连云港腐蚀-湿法腐蚀机-苏州晶淼半导体(推荐商家)
发布时间 2022-8-26
      苏州晶淼半导体设备有限公司，天道酬勤，商道酬信！精良的产品质量是我们的根本，超客户预期是我们的自我需求，金属腐蚀台，真诚守信是我们的原则，我
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