苏州晶淼半导体设备有限公司
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功率器件腐蚀设备-功率器件-苏州晶淼半导体
发布时间
2023-2-14
硅材料表面的颗粒、有机物、金属、吸附分子、微粗糙度、自然氧化层等***影响器件性能,清洗不佳引起的器件失效已超过集成电路制造中总损失的一半。因此,硅片清
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硅片刻蚀台-硅片-苏州晶淼半导体
发布时间
2023-2-14
蚀刻后必须除去丝印油墨。一般的耐酸油墨易溶于碱中。将蚀刻板浸入40~60g/l的溶液中,温度50~80℃,浸渍数分钟即可退去油墨。退除后,如果要求光亮度高,可进行抛光,然后进行染色,染色后为了
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晶圆清洗机-南京晶圆-苏州晶淼半导体
发布时间
2023-2-13
3.1 根据材料分类根据所用的材料来划分半导体器件封装形式有金属封装、陶瓷封装、金属一陶瓷封装和塑料封装。3.1.1 金属封装金属封装始于三极管封装,南京晶圆,后慢慢地应用于直插式扁平式封装,
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晶圆腐蚀机-晶圆-苏州晶淼半导体
发布时间
2023-2-13
半导体封装形式介绍3.3.5 封装晶片级封装csp(chip scale package)。几年之前以上所有的封装其封装本体面积与芯片面积之比通常都是几倍到几十倍,但近几年来有些公司在bga、
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湿法-苏州晶淼半导体-湿法腐蚀设备
发布时间
2023-2-13
高压清洗机是通过动力装置(电动机、柴油机)使高压柱塞泵产生高压水来冲洗物体表面的机器。它能将污垢剥离,冲走,达到清洗物体表面的目的。因为是使用高压水柱清理污垢,所以高压清洗也是世界***较科学
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苏州晶淼半导体-LED清洗机-宿迁LED
发布时间
2023-2-13
led照明纳入国家节能计划 国家***今年调整「节能产品惠民工程」补充,首度将led照明产品纳入,未来可望会加速led照明,包括晶电、亿光、东贝、艾笛森、新世纪等led厂将会受惠。
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酸-晶淼半导体-酸刻蚀台
发布时间
2023-2-12
现有的蚀刻片材质有两种,一为不锈钢,一为铜。不锈钢产品的外观亮丽,且能制出很细致的细部线条,比较适合超细部的表现,但因其硬度高,酸,所以在切割及加工时较麻烦,而且无法用一般的烙铁来焊接组合。铜
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苏州晶淼半导体-湿制程清洗机-泉州湿制程
发布时间
2023-2-12
在ic级硅片的制造过程中,由于很多工艺环节对硅片洁净度要求***,泉州湿制程,因此在一段工艺加工后通常会对硅片进行清洗,对于硅片的清洗来说通常是去除硅片表面的颗粒、有机物以及金属,在清洗过程中
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显影清洗机-无锡显影-晶淼半导体
发布时间
2023-2-12
传统和现代应用中越来越多地采用mems技术,晶圆清洗序列中越来越多的关键步骤,对3d结构晶圆的需求增加,以及物联网应用中越来越多地采用硅基传感器、芯片和二极管,这些都推动了晶圆清洗机市场的增长
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显影清洗-显影-苏州晶淼半导体
发布时间
2023-2-12
mems是将微电子技术与机械工程融合到一起的一种工业技术,它的操作范围在微米范围内;微机电系统有多种原材料和制造技术,显影腐蚀机,而硅则是用来制造微机电系统的主要原材料,微机电系统的生产方式是
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