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商机信息
信息标题 清洗机-晶淼半导体-半导体清洗机
发布时间 2023-2-17
超声清洗：     对不同材料及孔径的mcp应采用频率、声强可调的超声波进行实验,以确定实际工艺参数。对孔径6~12μmmcp的清洗,当媒液为水和***时,可采用
信息标题 苏州晶淼半导体-显影腐蚀台-营口显影
发布时间 2023-2-17
干法刻蚀有化学反应、物理去除以及化学物理混合去除三种方式，性能各有优劣。其中，物理性 刻蚀，又称离子束溅射刻蚀，原理是使带能粒子在强电场下加速，这些带能粒子通过溅射刻蚀作 用去除未被保护的硅片
信息标题 晶圆清洗设备-清洗-晶淼半导体
发布时间 2023-2-17
眼镜、钟表工业、宝石加工业：需要清洗的产品：眼镜、眼镜架、钟表、透镜、宝石、贵重金属装饰品、手饰、各类精密零件污染源1：涂料、真漆、清漆、润滑油、抛光剂、石墨、微尘污染源2：尘垢、盐、手垢、染
信息标题 晶圆清洗-扬州晶圆-晶淼半导体
发布时间 2023-2-17
在电子行业，非常重要，无论是电子厂的批量生产还是维修点的单块电路板都需要将其清洗干净，以免污垢或者焊锡对电路产生影响，甚至可能短路。使用超声波清洗是目前为有效的手段，扬州晶圆，一台超声波清洗机
信息标题 晶圆清洗-晶圆-晶淼半导体
发布时间 2023-2-17
硅片清洗 化学清洗 　化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染，方法较多，有溶剂萃取、酸洗（***、·王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中体系清洗方法效果好，环境污染小
信息标题 SPM清洗设备-SPM-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-2-16
酸洗时金属时可能会有腐蚀金属表面的情况发生，spm腐蚀台，可以使用酸性金属清洗剂来代替酸洗溶液，这样一来，既***了清洗剂效果，对金属材质也不会产生损伤。也可以在酸洗时在酸洗溶液中加入酸性金属
信息标题 显影-苏州晶淼半导体-显影清洗机
发布时间 2023-2-16
***加氧化剂清洗液 　 ***加氧化剂清洗液配方为: nh4oh∶h2o2∶h2o=1∶10∶10~1∶20∶20，温度为25~40℃，时间10~30min。由于这种清洗液具有碱性
信息标题 晶淼半导体-湿法腐蚀设备-苏州腐蚀
发布时间 2023-2-16
     半导体清洗机湿式清洗制程中，主要应用项目包含晶圆清洗与湿式蚀刻两项。至于脏污的来源，不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程***人体自身与动作的影响、
信息标题 腐蚀-苏州晶淼半导体-清洗腐蚀台
发布时间 2023-2-14
湿法清洗 ：      湿法清洗采用液体化学溶剂和di水氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。通常采用的湿法清洗有rca清洗法、稀释化学
信息标题 SC-1清洗机-镇江清洗-晶淼半导体
发布时间 2023-2-14
    按照清洗机序言的不同，镇江清洗，又概略分为湿式清洗机与干式清洗机：一样平常将在液体介质中发展的清洗机称为湿式清洗机，在气体介质中发展的清洗机称为干式清洗机
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