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商机信息
信息标题 晶圆-晶淼半导体-晶圆清洗
发布时间 2023-1-11
医学研究行业：需要清洗的产品：手术器具、钻头、扩孔器、食道镜、支气管镜、直肠镜、膀胱镜、吸液管、玻璃容器、传感器、试料玻璃等污染源：***、凝胶体、灰尘、线头、指纹、进入血中的污物、残剩的处理
信息标题 超声波清洗机-苏州晶淼半导体-南通清洗机
发布时间 2023-1-11
刻蚀机主要分类：电容电感两种方式，优势互补刻蚀按照被刻蚀材料划分，半导体清洗设备，主要分为硅刻蚀、介质刻蚀以及金属刻蚀。不同的刻蚀材质其所使用的的刻蚀机差距较大。干法刻蚀的刻蚀机的等离子体生成
信息标题 显影腐蚀机-大庆显影-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-1-11
SSEC单片处理技术使得晶圆在湿法处理时实现了对另一面的保护隔离了液体、水汽、物理的接触。应用范围包括单面湿法刻蚀、背部剥离、斜面清洗、晶圆减薄。对晶圆背部的处理取决于具体的应用。对于背部的清
信息标题 碱-苏州晶淼半导体-碱腐蚀设备
发布时间 2023-1-10
残留的光刻胶、树脂、残留物和其他有机污染物暴露在等离子体中，清洗机 slc (100)可以在短时间内去除。等离子表面清洗和表面改性（等离子表面处理）利用等离子的特性对待处理固体原料的表面进行清
信息标题 广州显影-苏州晶淼半导体-显影清洗
发布时间 2023-1-9
3 封装的分类半导体(包括集成电路和分立器件)其芯片的封装已经历了好几代的变迁，从DIP、SOP、QFP、PGA、BGA到MCP再到SIP，技术指标一代比一代先进，包括芯片面积与封装面积之比越
信息标题 显影-苏州晶淼半导体-显影清洗机
发布时间 2023-1-9
虽然等离子刻蚀设备在集成电路制造中得到了广泛的应用，离子刻蚀设备但由于等离子刻蚀过程中的物理化学过程复杂，它是理论上模拟和分析等离子刻蚀过程的有效方法，显影清洗机，但目前还没有。除蚀刻外，等离
信息标题 SPM清洗设备-泰州SPM-晶淼半导体
发布时间 2023-1-9
按照刻蚀工艺划分，其主要分为干法刻蚀以及湿法刻蚀。干法刻蚀占******。干法刻蚀主要利用反应气体与等离子体进行刻蚀，利用等离子体与表面薄膜反应，形成挥发性物质，或者直接轰击薄膜表面市值被腐蚀
信息标题 泰州晶圆-晶淼半导体 清洗机-晶圆清洗台
发布时间 2023-1-9
干法刻蚀有化学反应、物理去除以及化学物理混合去除三种方式，性能各有优劣。其中，物理性 刻蚀，又称离子束溅射刻蚀，原理是使带能粒子在强电场下加速，这些带能粒子通过溅射刻蚀作 用去除未被保护的硅片
信息标题 晶圆-晶淼半导体-晶圆酸洗
发布时间 2023-1-9
酸洗时金属时可能会有腐蚀金属表面的情况发生，可以使用酸性金属清洗剂来代替酸洗溶液，这样一来，既***了清洗剂效果，对金属材质也不会产生损伤。也可以在酸洗时在酸洗溶液中加入酸性金属清洗剂，这种清
信息标题 SPM清洗设备-南京SPM-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-1-8
3．1．3 金属一陶瓷封装它是以传统多层陶瓷工艺为基础，spm清洗设备，以金属和陶瓷材料为框架而发展起来的。其特征是高频特性好而噪音低而被用于微波功率器件，如微波毫米波二极管、微波低噪声三极管
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