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商机信息
信息标题 硅片腐蚀设备-泰州硅片-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-1-8
清洗设备应用行业1. 石油化学工业:设备和管道的清洗、除垢、除焦、清除高分子聚合物和生产工艺中沉积的缩合物等。2. 精密电子工业:光学仪器、精密机械及机器人以及零部件的洗净.3. 电力工业:高
信息标题 石家庄显影-晶淼半导体-显影腐蚀机
发布时间 2023-1-7
眼镜、钟表工业、宝石加工业：需要清洗的产品：眼镜、眼镜架、钟表、透镜、宝石、贵重金属装饰品、手饰、各类精密零件污染源1：涂料、真漆、清漆、润滑油、抛光剂、石墨、微尘污染源2：尘垢、盐、手垢、染
信息标题 显影-晶淼半导体-显影清洗机
发布时间 2023-1-7
硅片腐蚀利用晶硅腐蚀作用，去除硅片在多线切割锯切片时产生的表面损伤层，同时利用对硅腐蚀的各向***，争取表面较低反射率较低的表面织构。解释：现有多晶硅片是由长方体晶锭在多线切割锯切成一片片多晶
信息标题 功率器件腐蚀设备-苏州晶淼半导体-南京功率器件
发布时间 2023-1-7
按照刻蚀工艺划分，其主要分为干法刻蚀以及湿法刻蚀。由于干法刻蚀可以实现各向***刻蚀，符合现阶段半导体制造的高集成度的需求，因此在小尺寸的***工艺中，基本采用干法刻蚀工艺，导致干法刻蚀机在半
信息标题 LED清洗设备-苏州晶淼半导体-淮安LED
发布时间 2023-1-7
      rca清洗附加兆声能量后，可减少化学品及di 水的消耗量，缩短晶片在清洗液中的浸蚀时间，减轻湿法清洗的各向同性对积体电路特征的影响，增加清洗
信息标题 显影腐蚀台-咸宁显影-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-1-7
关于低温等离子安全（安全）的注意事项： 1.低温等离子表面处理设备属于高压设备，离子刻蚀设备没有知识的任何人不得打开机箱进行设备维护。 2. 未经厂家技术人员指导，不得随意拆卸喷头和主机。 3
信息标题 宿迁显影-苏州晶淼半导体-显影腐蚀机
发布时间 2023-1-6
***加氧化剂清洗液 　 ***加氧化剂清洗液配方为: nh4oh∶h2o2∶h2o=1∶10∶10~1∶20∶20，温度为25~40℃，时间10~30min。由于这种清洗液具有碱性
信息标题 显影-晶淼半导体-显影设备
发布时间 2023-1-6
     基于APM（NH4OH:H2O2:H2O）的化学材料在微粒去除方面仍占主宰地位，但如果没有兆频超声波强化，其作用就不是很有效。基于起初RCA（HPM：H
信息标题 蓝宝石清洗机-苏州晶淼半导体-泰州清洗机
发布时间 2023-1-6
     像兆频超声搅动这样的物理辅助手段对结构损伤和图形坍塌等有潜在影响，正在对其改进，以便在保持微粒去除工艺效率的同时不对图形完整性产生有害影响。考虑到表面形
信息标题 SPM清洗-连云港SPM-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-1-6
我们大家都知道，在工业生产过程中，我们都面临着各种各样的清洗问题，这是不可避免的。因此如何快速、有效的解决这些清洗难题，不但影响到工业生产的效率，同时也对产品的品质起到决定性的影响。由此看来，
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