苏州晶淼半导体设备有限公司
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硅片腐蚀台-苏州晶淼半导体-宿迁硅片
发布时间
2023-4-5
无机类异物清洗主要用水冲洗,但是水往往是以不同压力及形式冲洗在玻璃基板的表面。① HPMJ—High Pressure Micro Jet, 高压微粒喷射清洗技术,通过对水增压,在喷嘴处以高压
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晶圆清洗台-苏州晶淼半导体-常州晶圆
发布时间
2023-4-4
离子刻蚀设备在光刻胶涂层和光刻显影后,将光刻胶用作掩模,通过物理溅射和化学作用去除不需要的金属,从而得到与光刻胶图案相同的线条形状。目前,等离子刻蚀设备是主流的干法刻蚀方法,由于刻蚀速度快、定
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SPM腐蚀设备-苏州晶淼半导体-扬州SPM
发布时间
2023-4-4
硅料清洗机设备现在产业的不断扩大使得硅料的需求量急剧增加,硅料在运用也加大了硅料清洗的需求,但是这种材料需要专门的硅料清洗机来对其进行清洗。那么同时对硅料清洗机的需求量也增大了不少。但是不是说
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盐城LED-晶淼半导体 清洗机-LED腐蚀设备
发布时间
2023-4-4
清洗机机械/工具/量具/刃具工业:需要清洗的产品:轴承、螺丝、喷嘴、齿轮、夹具、固定装置用附件、弹簧、钻研模具、床身、阀、游标卡尺、挫刀、各类量具、各类刃具、各类机械零件等污染源1:磨料、切屑
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半导体腐蚀台-半导体- 苏州晶淼半导体
发布时间
2023-4-4
硅清洗技术经历了持续的发展改进,半导体腐蚀台,包括早期用气相等效物替代在湿化学品中进行的部分清洗操作。难以置信的是,半导体清洗设备,现代先进
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昆山晶片清洗机-苏州晶淼半导体-承德晶片
发布时间
2023-4-4
清洗机的优点 超声波清洗机是利用超声波发生器产生的的超音频电信号,通过换能器的压电效应转换成同频率的机械振荡,并以超音频机械波的形式在清洗液中辐射.由于超音
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半导体清洗设备-苏州晶淼半导体-徐州半导体
发布时间
2023-4-3
半导体水基清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等。在半导体分立器件和中、小规模集成电路
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晶圆酸洗设备-苏州晶淼半导体-徐州晶圆
发布时间
2023-4-3
离子刻蚀设备在光刻胶涂层和光刻显影后,将光刻胶用作掩模,通过物理溅射和化学作用去除不需要的金属,徐州晶圆,从而得到与光刻胶图案相同的线条形状。目前,等离子刻蚀设备是主流的干法刻蚀方法,晶圆酸洗
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无锡功率器件-苏州晶淼半导体-功率器件腐蚀机
发布时间
2023-4-3
RCA清洗法:自从20世纪70年代RCA清洗法问世之后,几十年来被广泛采用。它的基本步骤初期只包括碱性氧化和酸性氧化两步,但目前使用的RCA清洗大多包括四步,即先用含
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显影清洗机-显影-苏州晶淼半导体
发布时间
2023-4-3
集成电路是一种微型电子器件或部件。采用一定的工艺,把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内,成为具有所需
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