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商机信息
信息标题 晶片清洗-晶片-晶淼半导体 清洗机
发布时间 2023-4-3
干冰清洗机工业范围汽车工业清洗门皮、蓬顶、车厢、车底油污等无水渍，不会引致水污染；汽车化油器清洗及汽车表面除漆等；清除引擎积碳。 如处理积碳，用化学药剂处理时间长，少要用48小时以上，且药剂对
信息标题 淄博硅片-晶淼半导体-硅片酸洗设备
发布时间 2023-4-2
离子刻蚀设备在光刻胶涂层和光刻显***，将光刻胶用作掩模，通过物理溅射和化学作用去除不需要的金属，从而得到与光刻胶图案相同的线条形状。目前，等离子刻蚀设备是主流的干法刻蚀方法，由于刻蚀速度快、
信息标题 金属腐蚀设备-金属腐蚀-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-4-2
mems是将微电子技术与机械工程融合到一起的一种工业技术，它的操作范围在微米范围内；微机电系统有多种原材料和制造技术，而硅则是用来制造微机电系统的主要原材料，微机电系统的生产方式是在基质上堆积
信息标题 SPM清洗设备-苏州晶淼半导体-扬州SPM
发布时间 2023-4-2
等离子刻蚀机器，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中*常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此
信息标题 有机清洗-晶淼半导体 清洗机-无锡有机
发布时间 2023-4-2
驱动半导体封装形式不断发展的动力是其价格和性能。电子市场的客户可分为3类：家庭用户、工业用户和国家用户。家庭用户的特点是价格便宜而性能要求不高；国家用户要求性能而价格通常是普通用户的几十倍甚至
信息标题 泰安显影-晶淼半导体-显影清洗机
发布时间 2023-4-2
刻蚀工艺是半导体制造工艺中的关键步骤，对于器件的电学性能十分重要。其利用化 学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程，目标是在涂胶的硅片上正确地 掩模图形。如果刻蚀过程中出现失误，
信息标题 晶片清洗机-苏州晶淼半导体-焦作晶片
发布时间 2023-4-1
影响超声清洗效果的其它因素被清洗件的声学特性和在清洗槽中的排列对清洗效果也有较大的影响，吸声大的清洗对象，常熟晶片清洗机，如橡胶，布料等清洗效果差，而对声反射强的清洗件，晶片清洗机，如金属件，
信息标题 南通TMAH-晶淼半导体-TMAH清洗机
发布时间 2023-4-1
以前传统的浸洗、刷洗、压力冲洗、振动清洗和蒸气清洗，这些清洗方法都很容易破坏半导体表面，而且半导体制程中重复次数多的工序，清洗效果的好坏较大程度的影响芯片制程及积体电路特性等质量问题。在所有的
信息标题 显影清洗机-显影-晶淼半导体 清洗机
发布时间 2023-4-1
半导体磁盘清洗机欲清洗工件放入料框内固定夹内，由人工将料框放上入料口，等工位机械手自动将料框送入清洗机本体，显影清洗，上下提升机构依照PLC的程序将料框搬送到相应高度位置;完成对工件的洗剂清洗
信息标题 硅片腐蚀设备-苏州晶淼半导体-盐城硅片
发布时间 2023-4-1
刻蚀设备作为半导体设备的中坚力量，盐城硅片，有望先完成国产替代。半导体设备主要应用于半导体制造和封测流程，是半导体行业的基础。随着半导体制程的微缩和结构的复杂化，半导体刻蚀设备的种类和技术难度
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