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商机信息
信息标题 酸刻蚀台-苏州晶淼半导体-连云港酸
发布时间 2023-3-26
湿法刻蚀机台，适用于半导体湿法刻蚀工艺，包括:支撑结构，支撑结构提供一支撑面用以支撑待刻蚀的晶圆;待刻蚀的晶圆与支撑面之间预设一预定距离，支撑面朝向待刻蚀的晶圆的一面均布有多个气体喷嘴;控温加
信息标题 湿制程腐蚀设备-苏州晶淼半导体-白山湿制程
发布时间 2023-3-25
基片湿处理设备；硅片清洗刻蚀设备；硅片腐蚀台;湿台;全自动RCA清洗设备;外延钟罩清洗机；硅片电镀台；硅片清洗机；石英管清洗机；LED清洗腐蚀设备等。 光伏太阳能：全自动多晶硅块料腐蚀设备；多
信息标题 徐州清洗-苏州晶淼半导体-硅片清洗台
发布时间 2023-3-25
清洗机喷丝板清洗机是指于行业喷丝板的清洗的机械设备，酸腐蚀清洗设备，在主要的运行过程中，主要还是利用超声波进行产品清洗。喷丝板的作用是将黏熔体或溶液通过微孔转变成有特定截面的细流，经过凝固介质
信息标题 显影清洗机-显影-晶淼半导体 清洗机
发布时间 2023-3-25
半导体器件有许多封装型式，从DIP、SOP、QFP、PGA、BGA到CSP再到SIP，技术指标一代比一代先进，这些都是前人根据当时的组装技术和市场需求而研制的。总体说来，它大概有三次重大的革新
信息标题 晶圆清洗设备-苏州晶淼半导体-淮安晶圆
发布时间 2023-3-25
超声波清洗机在各个行业的应用光学、光电、光伏行业：需要清洗的产品：光学玻璃及组件、光电玻璃及组件、光伏玻璃及组件等污染源1：研磨粉、真漆、沥青、润滑油、抛光剂、石墨、微尘污染源2：尘垢、盐、手
信息标题 中央供液系统-苏州晶淼半导体-盐城系统
发布时间 2023-3-24
等离子刻蚀机的制备工艺简单 2.即使在处理复杂的轮廓结构时，离子刻蚀设备等离子蚀刻机也可以进行有针对性的准备。等离子刻蚀设备的刻蚀工艺改变了氮化硅层的形态。等离子刻蚀设备的刻蚀工艺改变了氮化硅
信息标题 乌海显影-晶淼半导体 清洗机-显影清洗机
发布时间 2023-3-24
硅片清洗 化学清洗 　化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染，显影清洗机，方法较多，有溶剂萃取、酸洗（硫酸、·王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中体系清洗方法效果好，
信息标题 晶片清洗机-晶片-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-3-24
     为了应对硅表面的非平面性问题，晶圆清洗技术至少受到三个不同前沿加工技术的挑战。首先涉及的是cmos加工。在器件几何形状不断减小时，数字cmos技术方面的
信息标题 显影清洗机-显影-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-3-24
与此同时，规模化的洗涤公司遍及大街小巷．大大小小的家庭清洁．保洁公司大量出现，显影，民用清洗领域呈现商业化。随着我国国民经济的持续高速发展．人们对日常生活质量提出了更高的要求，显影清洗机，从远
信息标题 石英管腐蚀设备-苏州晶淼半导体-苏州石英管
发布时间 2023-3-23
晶圆清洗机用于清洗已划片完成的工件，对切割道进行清洗，以便后续uv解胶工作。晶圆清洗机的主要工艺是水清洗、二流体清洗、甩干，其中不同种类工件使用不同的流量、压力等等。本图纸为成熟产品的图纸，已
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