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商机信息
信息标题 晶圆酸洗-苏州晶圆-晶淼半导体
发布时间 2023-2-27
半导体器件有许多封装型式，从DIP、SOP、QFP、PGA、BGA到CSP再到SIP，晶圆酸洗设备，技术指标一代比一代先进，这些都是前人根据当时的组装技术和市场需求而研制的。总体说来，它大概有
信息标题 晶圆腐蚀台-晶圆-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-2-27
硅晶片的化学蚀刻是通过将晶片浸入蚀刻剂中来完成的，该蚀刻剂传统上是稀释剂或苛性碱溶液的酸性混合物。***了苛性结晶学蚀刻的各种研究.然而，本文只关注基于酸的蚀刻的传输和动力学效应。实际的反应机
信息标题 SPM-苏州晶淼半导体-SPM清洗
发布时间 2023-2-27
刻蚀工艺顺序位于镀膜和光刻之后。简单来说，SPM，刻蚀机的作用就好像是雕刻中的刻刀一样，利用光学-化学反应原理和化学、物理等刻蚀方法，将晶圆表面附着的不必要的材质进行去除，留下的就是晶圆所需要
信息标题 苏州晶淼半导体-显影清洗-襄阳显影
发布时间 2023-2-27
半导体设备在工艺过程中会产生反应热或其他介质辐射、传导的热量。为***工艺稳定或安全考虑会选择对腔体进行一定的温度控制。水因获得容易，成本低，对环境无污染，显影清洗，换热率***优点。通常用作
信息标题 有机去胶机-镇江有机-晶淼半导体
发布时间 2023-2-27
法蚀刻仍被广泛地应用于当今集成电路制造领域，镇江有机，因其工艺可准确控制薄膜的去除量以及工艺过程中对原材料的损耗较低，在今后很长一段时间内其***将无法被取代.随着工艺尺寸的不断缩小，器件**
信息标题 晶淼半导体-TMAH腐蚀设备-扬州TMAH
发布时间 2023-2-25
mems传感器应用于无创胎心检测，检测胎儿心率是一项技术性很强的工作，由于胎儿心率很快，在每分钟l20～160次之间，用传统的甚至只有放大作用的超声多普勒仪，用人工计数很难测量准确。而具有数字
信息标题 显影腐蚀台-日照显影-晶淼半导体
发布时间 2023-2-25
我国在上世纪60年代自行研制和生产了首台计算机，其占用面积大约为100 m2以上，现在的便携式计算机只有书包大小，而将来的计算机可能只与钢笔一样大小或更小。计算机体积的这种迅速缩小而其功能越来
信息标题 酸刻蚀-驻马店酸-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-2-24
硅片清洗烘干方法：湿法清洗＋去离子水冲洗＋脱水烘焙（热板150～2500c，1～2分钟，氮气保护）目的：a、除去表面的污染物（颗粒、有机物、工艺残余、可动离子）；b、除去水蒸气，是基底表面由亲
信息标题 湿法清洗机-湿法-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-2-24
半导体磁盘清洗机欲清洗工件放入料框内固定夹内，由人工将料框放上入料口，湿法，等工位机械手自动将料框送入清洗机本体，上下提升机构依照plc的程序将料框搬送到相应高度位置;完成对工件的洗剂清洗、纯
信息标题 半导体-晶淼半导体-半导体清洗机
发布时间 2023-2-24
湿法清洗 ：      湿法清洗采用液体化学溶剂和DI水氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。通常采用的湿法清洗有RCA清洗法、稀释化学
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