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商机信息
信息标题 晶圆清洗台-宿迁晶圆-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-5-12
等离子刻蚀机器，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中*常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此
信息标题 晶圆酸洗台-晶圆-晶淼半导体
发布时间 2023-5-12
蚀刻气体将气体与衬底分离并从衬底中提取气体。空管。在相同条件下，氧等离子体处理比氮等离子体处理更有效。安等离子蚀刻技术，如果需要蚀刻，如果需要去除蚀刻后的污渍、浮渣、表面处理、等离子聚合、等离
信息标题 苏州晶淼半导体-分立器件腐蚀设备-德州分立器件
发布时间 2023-5-9
等离子清洗机的处理可以提高材料表面的润湿性，进行各种材料的涂镀、电镀等操作，提高粘合强度和粘合强度，去除有机污染物，油类和油脂增加。同时。等离子清洁剂用于胶合、焊接、印刷、涂层和涂层等应用。等
信息标题 苏州晶淼半导体-显影腐蚀台-安庆显影
发布时间 2023-5-9
清洗机清洗机，用于冲洗过滤液压系统在制造、装配、使用过程及维护时生成或侵入的污染物；也可以适用于对工作油液的定期维护过滤，提高清洁度，避免或减少因污染而造成的故障，从而保证液压系统设备的性能、
信息标题 硅片清洗-盐城硅片-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-5-7
刻蚀是用化学、物理、化学物理结合的方法有选择的去除（光刻胶）开口下方的材料。被刻蚀的材料包括硅、介质材料、金属材料、光刻胶。刻蚀是与光刻相联系的图形化处 理工艺。刻蚀就是利用光刻胶等材料作为掩
信息标题 SPM腐蚀台-SPM-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-5-7
腐蚀机对功率半导体器件中半导体芯片进行腐蚀加工均采用人工操作，即先人工将半导体芯片除台面外的两面涂黑蜡保护，SPM，再人工将半导体芯片台面进行腐蚀、清洗，SPM清洗机，人工用有机物去除黑蜡、清
信息标题 常州显影-显影清洗机-苏州晶淼半导体(推荐商家)
发布时间 2023-5-6
　　清洗设备在主要清洗物质依制程不同而清除对象而有所差异，Wet Station主要清除物质为污染微粒、Organic与 MetalIon、NativeOxide等。而单晶圆设备则对污染微粒与
信息标题 安阳湿法-湿法清洗机-苏州晶淼半导体(推荐商家)
发布时间 2023-5-5
蚀刻后必须除去丝印油墨。一般的耐酸油墨易溶于碱中。将蚀刻板浸入40～60g／L的溶液中，温度50～80℃，浸渍数分钟即可退去油墨。退除后，如果要求光亮度高，可进行抛光，湿法清洗机，然后进行染色
信息标题 湿制程腐蚀设备-晶淼半导体 清洗机-鄂尔多斯湿制程
发布时间 2023-5-5
我国在上世纪60年代自行研制和生产了首台计算机，其占用面积大约为100 m2以上，现在的便携式计算机只有书包大小，而将来的计算机可能只与钢笔一样大小或更小。计算机体积的这种迅速缩小而其功能越来
信息标题 硅片刻蚀-盐城硅片-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-5-5
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为:超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等;其中应用
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