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商机信息
信息标题 LED酸洗设备-LED-晶淼半导体
发布时间 2023-3-4
集成电路按用途可分为电视机用集成电路、音响用集成电路用集成电路、录像机用集成电路、电脑（微机）用集成电路、电子琴用集成电路、通信用集成电路、照相机用集成电路、遥控集成电路、语言集成电路、报警器
信息标题 分立器件腐蚀机-分立器件-晶淼半导体 清洗机
发布时间 2023-3-4
基片湿处理设备；硅片清洗刻蚀设备；硅片腐蚀台;湿台;全自动RCA清洗设备;外延钟罩清洗机；硅片电镀台；硅片清洗机；石英管清洗机；LED清洗腐蚀设备等。 光伏太阳能：全自动多晶硅块料腐蚀设备；多
信息标题 SPM-晶淼半导体-SPM腐蚀设备
发布时间 2023-3-4
目前在 半导体清洗机湿式清洗制程中，主要应用项目包含晶圆清洗与湿式蚀刻两项，晶圆 (湿式) 清洗制程主要是希望藉由化学药品与清洗设备，清除来自周遭环境所附着在晶圆表面的脏污，以达到半导体组件电
信息标题 晶淼半导体-SPM腐蚀设备-泰州SPM
发布时间 2023-3-2
注意事项1·当操作高压清洗机时：始终需戴适当的护目镜，手套和面具。2·始终让保持手和脚不接触清洗喷嘴。3·经常要检查所有的电接头。4·经常检查所有的液体。5·经常检查软管是否有裂缝和泄漏处。6
信息标题 显影清洗机-大兴安岭地显影-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-3-2
蚀刻片的作用主要是看其行业的运用的领域，在模型蚀刻片上，其局部较为细腻的处理方式，为了达到模型高还原，在金属蚀刻片上小到灯罩、网罩、盖板等都是通过蚀刻片来完成，如刀版、烫金版、产品内细部零件。
信息标题 晶淼半导体-显影腐蚀台-上饶显影
发布时间 2023-3-1
湿法刻蚀机台，适用于半导体湿法刻蚀工艺，包括:支撑结构，显影设备，支撑结构提供一支撑面用以支撑待刻蚀的晶圆;待刻蚀的晶圆与支撑面之间预设一预定距离，支撑面朝向待刻蚀的晶圆的一面均布有多个气体喷
信息标题 硅片-晶淼半导体-硅片刻蚀设备
发布时间 2023-3-1
在对液晶玻璃进行的等离子清洗中，使用的活化气体是氧的等离子体，它能除去油性污垢和有机污染物粒子，因为氧等离子体可将有机物氧化并形成气体排出。它的问题是需要在去除粒子后加入一个除静电装置，其清洗
信息标题 苏州晶淼半导体-晶圆清洗设备-扬州晶圆
发布时间 2023-3-1
主要清洗参数为:1、材质:槽体为全不锈钢制作，耐酸耐碱，外形美观大方。2、机型:可根据客户要求加工定制。3、功率、频率:可调，采用超声波发生器，能量转换率高。4、温控:常温0-110℃可调。5
信息标题 晶淼半导体-半导体清洗机-盐城清洗
发布时间 2023-2-28
半导体磁盘清洗机欲清洗工件放入料框内固定夹内，由人工将料框放上入料口，等工位机械手自动将料框送入清洗机本体，上下提升机构依照PLC的程序将料框搬送到相应高度位置;完成对工件的洗剂清洗、纯水喷淋
信息标题 晶圆腐蚀-晶圆-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-2-28
虽然等离子刻蚀设备在集成电路制造中得到了广泛的应用，离子刻蚀设备但由于等离子刻蚀过程中的物理化学过程复杂，它是理论上模拟和分析等离子刻蚀过程的有效方法，但目前还没有。除蚀刻外，晶圆，等离子技术
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