苏州晶淼半导体设备有限公司
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硅片清洗台-硅片-苏州晶淼半导体
发布时间
2023-3-7
超声波清洗 :超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用,使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。目前所用的超声波清洗机中,硅片腐蚀,空化作
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半导体酸洗设备-苏州晶淼半导体-苏州半导体
发布时间
2023-3-7
氨水加氧化剂清洗液: 在表面污物被氧化和刻蚀的同时也会发生MCP表面粗糙现象,苏州半导体,造成MCP表面“发毛”和划道或路子等伤害,造成产品质
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晶圆清洗设备-晶淼半导体 清洗机-苏州晶圆
发布时间
2023-3-7
清洗设备主要由耐腐蚀机架、 酸槽、 水槽、 干燥槽、 控制单元、 排风单元以及气体和液体管路单元等几大部分构成。其中酸槽和管路单元是清洗设备的主要组成部分。 按照材料的差异, 槽体可分为用不锈
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三明晶片-晶淼半导体-晶片清洗机
发布时间
2023-3-7
在批次清洗工艺还是在单晶圆清洗工艺中,三明晶片,传统的浸没清洗仍起主导作用。在单晶圆清洗工艺时,这一趋势由于太阳电池清洗技术的需求而强化。该
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三门峡显影-晶淼半导体-显影清洗机
发布时间
2023-3-6
研究所及其他原子能工业:需要清洗的产品:控制杆、计数管、泵、铅管类、研究所用的容器、玻璃螺管、玻璃管、分析试料、目镜等污染源:灰尘、沾附污垢、砂砾、硅油、润滑油使用清洗剂:碱性洗涤剂、中性洗涤
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南通硅片-晶淼半导体 清洗机-硅片清洗台
发布时间
2023-3-5
也许大家对清洗机这样一种设备并不是很了解,但它却是在我们的生活中经常用到,下面为大家介绍一下清洗机的主要用途。 1、航天、航空——清洗精密零部件。电子线路板,南通硅片,飞机轮毂,刹车系统、空
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晶圆酸洗-晶圆-苏州晶淼半导体
发布时间
2023-3-5
驱动半导体封装形式不断发展的动力是其价格和性能。电子市场的客户可分为3类:家庭用户、工业用户和国家用户。家庭用户的特点是价格便宜而性能要求不高;国家用户要求性能而价格通常是普通用户的几十倍甚至
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功率器件清洗机-苏州晶淼半导体-徐州功率器件
发布时间
2023-3-5
湿法刻蚀:用液体化学剂去除衬底表面的材料。早期普遍使用,在 3um 以后由于线宽控 制、刻蚀方向性的局限,主要用干法刻蚀。目前,湿法刻蚀仍用于特殊材料层的去除和 残留物的清洗。干法刻蚀:常用等
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苏州晶淼半导体-晶圆腐蚀台-镇江晶圆
发布时间
2023-3-4
半导体封装形式介绍3.3.5 封装晶片级封装CSP(Chip Scale Package)。几年之前以上所有的封装其封装本体面积与芯片面积之比通常都是几倍到几十倍,但近几年来有些公司在BGA、
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LED清洗机-无锡LED-苏州晶淼半导体
发布时间
2023-3-4
热水高压清洗机的故障处理方法1、热水高压清洗机锅炉不能正常点燃的原因 一般商用热水高压清洗机都采用高压电极放电点火,再通过电磁阀来控制供油、控制锅炉的燃烧。不能正常点燃的原因通常有以下几种:温
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