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商机信息
信息标题 酸刻蚀-苏州晶淼半导体-莱芜酸
发布时间 2023-3-18
氨水加氧化剂清洗液：      在表面污物被氧化和刻蚀的同时也会发生MCP表面粗糙现象，酸刻蚀，造成MCP表面“发毛”和划道或路子等伤害，造成产品质量下
信息标题 供酸设备系统-苏州晶淼半导体-扬州系统
发布时间 2023-3-18
半导体清洗半导体清洗机在清洁过程中使用普通自来水、酒精、溶剂来进行清洗就可以了。没有那么多各种各样的清洗剂。半导体清洗机大功率换能器清洗效果良好，扬州系统，可用肉眼观察到，供酸设备系统，清洗后
信息标题 淮北湿法-晶淼半导体 清洗机-湿法腐蚀机
发布时间 2023-3-17
(2)电气连接。封装的尺寸调整(间距变换)功能可由芯片的极细引线间距，调整到实装基板的尺寸间距，从而便于实装操作。例如从以亚微米(目前已达到0．1 3μm以下)为特征尺寸的芯片，湿法腐蚀，到以
信息标题 硅片腐蚀机-硅片-苏州晶淼半导体
发布时间 2023-3-17
蚀刻片的作用主要是看其行业的运用的领域，硅片腐蚀设备，在模型蚀刻片上，其局部较为细腻的处理方式，为了达到模型高还原，在金属蚀刻片上小到灯罩、网罩、盖板等都是通过蚀刻片来完成，如刀版、烫金版、产
信息标题 许昌晶片-苏州晶淼半导体-昆山晶片清洗机
发布时间 2023-3-16
     通用超声波清洗机清洗零件实用性强，许昌晶片，已遍及使用于电子、钟表、光学、机器、汽车、航空、原子能财制作、等许多行业。 超声波清洗机通常安设在某些特定物
信息标题 SPM腐蚀台-腐蚀- 苏州晶淼半导体
发布时间 2023-3-16
湿法清洗 ：      湿法清洗采用液体化学溶剂和DI水氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。通常采用的湿法清洗有RCA清洗法、稀释化学
信息标题 硅片清洗-苏州晶淼半导体-镇江硅片
发布时间 2023-3-16
清洗机操作规程准备前奏检查管路系统有无漏气漏水的情况，如有这种情况，应通知维修人员修理。检查清洗液是否足够，如果不够，及时增加清洗液。先点动试车，然后空运转2-3分钟，检查传动系统（电动机、联
信息标题 LED腐蚀设备-苏州晶淼半导体-无锡LED
发布时间 2023-3-16
蚀刻片的作用主要是看其行业的运用的领域，在模型蚀刻片上，LED清洗设备，其局部较为细腻的处理方式，为了达到模型高还原，在金属蚀刻片上小到灯罩、网罩、盖板等都是通过蚀刻片来完成，如刀版、烫金版、
信息标题 江显影-晶淼半导体-显影清洗机
发布时间 2023-3-16
我们大家都知道，显影清洗机，在工业生产过程中，我们都面临着各种各样的清洗问题，这是不可避免的。因此如何快速、有效的解决这些清洗难题，不但影响到工业生产的效率，显影腐蚀机，同时也对产品的品质起到
信息标题 显影清洗机-苏州晶淼半导体-盐城显影
发布时间 2023-3-14
化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有hf，显影腐蚀台，h2so4，h2o2，hcl等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有di清洗。ipa是，就是工业酒精，是用来
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